激光因其環(huán)保、制造工藝簡(jiǎn)單、維護(hù)成本低等優(yōu)點(diǎn)，已成為大多數(shù)TP廠家的。激光蝕刻機(jī)用于高精度光學(xué)設(shè)備的日常維護(hù)，不僅能有效降低設(shè)備故障率，提高設(shè)備加工效率，降低生產(chǎn)成本的消耗。    日常維護(hù)和保養(yǎng)中首先務(wù)必要保證設(shè)備的清潔，并保證使其工作環(huán)境清潔無(wú)塵。ITO/Ag激光蝕刻設(shè)備的光學(xué)器件主要由晶體和鏡片組成，且其表面均鍍有精密膜，灰塵對(duì)所鍍的膜層影響很大，不僅會(huì)減弱激光的輸出功率，嚴(yán)重時(shí)還會(huì)損壞光學(xué)器件表面的膜層，以至光學(xué)器件損壞或報(bào)廢，造成設(shè)備無(wú)法正常工作。    在平常的保養(yǎng)中，如發(fā)現(xiàn)光學(xué)器件表面有灰塵，可以用吹氣球?qū)χ骷砻孑p輕的吹去灰塵，嚴(yán)禁用嘴直接對(duì)著器件表面吹氣。如果用吹氣球無(wú)法除去器件表面的污垢，可以用鏡頭紙對(duì)器件表面輕輕的擦拭，還可以用脫脂棉醮酒精(純度95%以上，是分析純)對(duì)器件表面輕輕的擦拭。






腐蝕機(jī)為人工氣候環(huán)境“三防”（濕熱、鹽霧、霉菌）試驗(yàn)設(shè)備之一，是研究機(jī)械、工業(yè)、輕工電子、儀表等行業(yè)各種環(huán)境適應(yīng)性和可靠性的一種重要試驗(yàn)設(shè)備。    傳統(tǒng)的化學(xué)蝕刻機(jī)分為潑濺式腐蝕機(jī)、水平蝕刻機(jī)，然而在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，由于各種原因，蝕刻精度往往很難控制，容易產(chǎn)生測(cè)腐蝕現(xiàn)象；華誼智能科技通過(guò)市場(chǎng)的反饋和多年的蝕刻設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)，研發(fā)出一款反噴淋式轉(zhuǎn)盤蝕刻機(jī)（轉(zhuǎn)盤大小可定做），將工件夾在轉(zhuǎn)盤上，獨(dú)立搖擺噴架由下往上高壓噴淋，同時(shí)轉(zhuǎn)盤也自轉(zhuǎn)，這樣就避免了蝕刻液在工件表面的殘留，提高了蝕刻精度。    同時(shí)轉(zhuǎn)盤蝕刻機(jī)標(biāo)配：4KW立式耐酸泵、全壓過(guò)濾器、鈦合金加熱管、鈦合金水冷管、溫度顯示自動(dòng)加熱系統(tǒng)等等。

什么是金屬蝕刻機(jī)

 金屬蝕刻機(jī)上先用絲網(wǎng)印刷或絲網(wǎng)印刷基板需求的覆蓋件板保護(hù)，然后再用化學(xué)或電化學(xué)腐蝕掉不需要的部分，并回去保護(hù)膜，是一種方式處理產(chǎn)品。    金屬蝕刻機(jī)是生產(chǎn)標(biāo)牌、板、金屬工藝品、金屬版畫、過(guò)程的關(guān)鍵一步。次工業(yè)技術(shù)中的應(yīng)用是在打印版的絲綢之路，由于絲綢之路的絲絲密集，加工將難以實(shí)現(xiàn)。不同的金屬性能會(huì)發(fā)生變化，蝕刻的圖案精度的不同蝕刻深度，刻蝕方法是蝕刻劑成分都不相同，感光耐腐蝕材料也會(huì)發(fā)生變化。    東莞市華誼智能科技有限公司，坐落于珠三角東部經(jīng)濟(jì)走廊-虎門濱海灣新區(qū)，是一家研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、安裝、調(diào)試及售后服務(wù)為一體的精密蝕刻機(jī)企業(yè)，公司主要經(jīng)營(yíng)：蝕刻機(jī)、五金蝕刻機(jī)、引線框架蝕刻機(jī)、補(bǔ)強(qiáng)片蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)、真空蝕刻機(jī)等設(shè)備。

什么是蝕刻機(jī)

或許在很多人看來(lái)，刻蝕技術(shù)并不如光刻機(jī)那般“”，但刻蝕在芯片的加工和生產(chǎn)過(guò)程中同樣不可或缺。刻蝕機(jī)主要工作是按照前段光刻機(jī)“描繪”出來(lái)的線路來(lái)對(duì)晶片進(jìn)行更深入的微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔，然后除去表面的光刻膠，從而形成刻蝕線路圖案。

在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)像是前端，而蝕刻機(jī)就是后端。光刻機(jī)的作用是把電路圖描繪至覆蓋有光刻膠的硅片上，而蝕刻機(jī)的作用就是按照光刻機(jī)描繪的電路圖把硅片上其它不需要的光刻膠腐蝕去除，完成電路圖的雕刻轉(zhuǎn)移至硅片表面。兩者一個(gè)是設(shè)計(jì)者，一個(gè)是執(zhí)行者，整個(gè)芯片生產(chǎn)過(guò)程中，需要重復(fù)使用兩種設(shè)備，直至將完整的電路圖蝕刻到硅晶圓上為止。

目前，我國(guó)在蝕刻機(jī)領(lǐng)域已達(dá)到世界先進(jìn)水平，尤其是中微半導(dǎo)體成功突破研制的5nm蝕刻機(jī)已于其它企業(yè)，而且得到了臺(tái)積電的驗(yàn)證。真正面臨技術(shù)挑戰(zhàn)，也是被卡脖子的領(lǐng)域是光刻機(jī)。不過(guò)日前中科院院長(zhǎng)白春禮表示，已將光刻機(jī)等技術(shù)難度較高的產(chǎn)品列入科研清單，未來(lái)將集中力量對(duì)這些“卡脖子”的技術(shù)進(jìn)行攻關(guān)。相信未來(lái)光刻機(jī)技術(shù)也會(huì)實(shí)現(xiàn)重大突破。