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遼寧半導(dǎo)體真空腔體加工廠家歡迎來電 科創(chuàng)真空

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發(fā)布時(shí)間:2021-09-03 20:29  
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視頻作者:北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司






影響真空絕緣水平的主要因素

真空度

顯現(xiàn)了空隙擊穿電壓和氣體壓強(qiáng)之間的關(guān)系。由圖可以看到真空度高于10-2Pa時(shí),擊穿電壓基本上不再跟著氣體壓力的下降而增大,因?yàn)闅怏w分子碰撞游離現(xiàn)象已不復(fù)興效果。當(dāng)氣體壓力從10-2Pa逐步升高時(shí)(真空度下降),擊穿強(qiáng)度逐步下降,以后又隨氣壓的而。從曲線上可以看出真空度高于10-2Pa時(shí)其耐壓強(qiáng)度基本上堅(jiān)持不變。標(biāo)準(zhǔn)鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸,14英寸,18英寸和24英寸。這就標(biāo)明,真空滅弧室的真空度在10-2Pa以上時(shí)完全可以滿足正常的運(yùn)用需求。





真空腔體優(yōu)勢(shì)及特性


——按照客戶要求,加工訂制;

——一對(duì)一專業(yè)出圖設(shè)計(jì);

——可配套真空機(jī)組系統(tǒng);

——耐高溫、耐腐蝕;

——高質(zhì)量、;

加工工藝,完全采用真空焊接技術(shù)拼裝焊接;

先進(jìn)的真空撿漏設(shè)備,更加保證產(chǎn)品的優(yōu)越性;

超高真空主要應(yīng)用在離子鍍膜、高真空半導(dǎo)體設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備等對(duì)環(huán)境要求極高的真空領(lǐng)域。

我公司采用三維建模軟件,按照實(shí)際比例建立3D模型,根據(jù)客戶文字、語言草圖等需求表述,專業(yè)設(shè)計(jì)出適合客戶所需產(chǎn)品方案(在方案定稿之前所有設(shè)計(jì)不收取任何費(fèi)用)。

為了生產(chǎn)出匹配客戶需求的產(chǎn)品,需要告知我公司以下幾個(gè)問題點(diǎn):

1、產(chǎn)品在使用過程中是否有溫度產(chǎn)生,高溫和低溫分別是多少攝氏度,是否需要通水或液氮冷卻等內(nèi)外在因素。

2、對(duì)產(chǎn)品材質(zhì)是否有特殊要求,真空領(lǐng)域腔體常用材質(zhì)為:碳鋼、鋁、304不銹鋼、316不銹鋼等

3、產(chǎn)品的鏈接方式,抽真空的方式,抽真空所用的真空泵等

4、腔體真空度的要求,腔體抽完真空以后是否需要沖入保護(hù)氣體或其他氣體。

通常常見真空腔體技術(shù)性能:

材質(zhì):304不銹鋼或客戶材質(zhì)。

腔體適用溫度范圍:-190℃~ 1500℃(需加水冷卻)

密封方式:氟膠“O”型圈或金屬無氧銅密封圈

出廠檢測(cè)事項(xiàng):

1、真空漏率檢測(cè):標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)漏率:1.3*10-8Pa●L/S    

2、水冷水壓檢測(cè):標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)壓力:8公斤24小時(shí)無泄漏檢測(cè)。

內(nèi)外表面處理:拉絲拋光處理、噴砂電解處理、酸洗處理、電解拋光處理和鏡面拋光處理等。








半導(dǎo)體真空腔體制造技術(shù) 

真空腔體在薄膜涂層、微電子、光學(xué)器件和材料制造中,是一種能適應(yīng)高真空環(huán)境的特殊容器。真空腔體通常包括一系列部品——如鐘形罩、基板、傳動(dòng)軸以及輔助井——這些構(gòu)成一個(gè)完整的真空腔體。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制,即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專門的設(shè)計(jì)和制作。某些常見的真空腔體已經(jīng)過預(yù)先設(shè)計(jì),如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。通常采用弧焊來完成焊接,可避免大氣中熔化的金屬和氧氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而影響焊接質(zhì)量,弧焊是指在焊接過程中向鎢電極周圍噴射保護(hù)氣體氣,以防止熔化后的高溫金屬發(fā)生氧化反應(yīng)。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境,可用于焊接,或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。

真空設(shè)備包含很多組件,如真空腔體,真空密封傳導(dǎo)件,視口設(shè)置,真空傳感器,真空顯示表,沉積系統(tǒng),蒸發(fā)源和蒸發(fā)材料,濺鍍靶材,等離子刻蝕設(shè)備,離子注入設(shè)備,真空爐,專用真空泵,法蘭,閥門和管件等。真空設(shè)備常用于脫氣,焊接,制備薄膜涂層,生產(chǎn)半導(dǎo)體/晶圓、光學(xué)器件以及特殊材料等。當(dāng)氣體壓力從10-2Pa逐步升高時(shí)(真空度下降),擊穿強(qiáng)度逐步下降,以后又隨氣壓的而。





真空腔體制造技術(shù)

提供專用設(shè)備腔的定制服務(wù),腔體的外形和開口可以根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。

表面分析腔有通用腔體,用戶也可以在通用腔體的基礎(chǔ)上進(jìn)行自定義設(shè)計(jì)。

手套箱和焊接箱專用于熔煉或焊接鈦、鋅等對(duì)易在大氣中氧化的材料。

真空密封頸是基板和鐘形罩之間的過渡組件,它可以提供額外的高度和更多的自由端口。

裝載鎖定室是建在主腔體上的小腔體,可在不破壞主腔體真空度的條件下,將樣本、晶片或其他組件從外部大氣環(huán)境移動(dòng)到內(nèi)部高真空環(huán)境中。

真空腔體可以按照真空度進(jìn)行分類,包括粗或低真空度(< 760, > 1 torr),中真空度(< 1, >10-3 torr),高真空度(< 10-3, >10-8 torr),超高真空度(< 10-8 torr),以及非真空的高壓力 (> 760 torr)。真空腔的寬度和外徑等常規(guī)尺寸是非常重要的參數(shù)。超高真空主要應(yīng)用在離子鍍膜、高真空半導(dǎo)體設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備等對(duì)環(huán)境要求極高的真空領(lǐng)域。標(biāo)準(zhǔn)鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸,14英寸,18英寸和24英寸。

真空腔體或者真空組件的可選項(xiàng)包括法蘭、裝配形式、表面拋光或電拋光、開口或傳導(dǎo)口,加熱器和冷卻方式等。

Ferrotec在真空中制造中的解決方案

使用磁流體密封件作為在旋轉(zhuǎn)過程中真空解決方案。磁流體密封件可以隔絕大氣和污染物。

制備的石英用來制造視口及配件等組件,石英在許多其他加工工藝中也有使用。

真空鍍膜可選Ferrotec的PVD電子束蒸發(fā)系統(tǒng)。

如需了解更多真空環(huán)境下的制造信息,請(qǐng)參考真空工業(yè)界的資料。

復(fù)雜的真空腔體通常需要定制,即針對(duì)應(yīng)用終端進(jìn)行專門的設(shè)計(jì)和制作。某些常見的真空腔體已經(jīng)過預(yù)先設(shè)計(jì),如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。此外,擊穿電壓還和電極面積的大小成反比,即跟著電極面積的增大而有所下降。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環(huán)境,可用于焊接,或用于塑料制品、復(fù)合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。





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