鋼研納克SparkCCD7000

高分辨率 CCD 檢測(cè)器

像素?cái)?shù)：3648 46 全行業(yè)較高

像素尺寸：8μm 全行業(yè)較小

精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量 N

萬(wàn)級(jí)超凈環(huán)境下打造較優(yōu)光學(xué)系統(tǒng)

帕邢 - 龍格結(jié)構(gòu)羅蘭光學(xué)系統(tǒng)，無(wú)像差，分辨率均勻

高發(fā)光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線(xiàn)為 2700 條 /mm，全行業(yè)較高

線(xiàn)分辨率 0.7407nm/mm

像素分辨率 0.005926nm

譜線(xiàn)范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）

智能控制系統(tǒng)，再啟動(dòng)耗時(shí)行業(yè)較低

潮汐式?jīng)_洗方式，冷機(jī)（關(guān)機(jī) 12 小時(shí)）啟動(dòng)只需 30min，熱機(jī)啟動(dòng)時(shí)間 5min

智能判斷分析間隔時(shí)間，合理補(bǔ)充氣，降低氣消耗

60ml/min 超低待機(jī)流量，一瓶氣 24 小時(shí)待機(jī) 70 天

分片式曝光，痕量元素識(shí)別強(qiáng)度大幅提高，檢出限更低

一次激發(fā)，分片曝光，同時(shí)采集，同時(shí)回?cái)?shù)

獨(dú)立控制不同 CCD 的積分曝光時(shí)間

提升痕量元素的強(qiáng)度，降低儀器的檢出限

隨波段調(diào)節(jié)積分時(shí)間，提升儀器的 穩(wěn)定性

1000型光電直讀光譜儀定位于產(chǎn)品，通過(guò)改進(jìn)光室材質(zhì)、第三元素干擾校正模型、恒溫系統(tǒng)設(shè)計(jì)等提高了儀器的可靠性、穩(wěn)定性。鋼研納克副總經(jīng)理陳吉文說(shuō)到，“近年來(lái)，鋼研納克光電直讀光譜儀的銷(xiāo)售業(yè)績(jī)一直保持著高于市場(chǎng)整體水平的增速，累計(jì)銷(xiāo)量已達(dá)到3000臺(tái)，處于國(guó)產(chǎn)光電直讀光譜儀市場(chǎng)地位。2014年鋼研納克的市場(chǎng)占有率高達(dá)30%-35%，即使與進(jìn)口品牌相比，占有率也是一。其中，1000型每年銷(xiāo)售臺(tái)數(shù)占公司的30%，百臺(tái)數(shù)量級(jí)?！?

直讀光譜儀

干擾效應(yīng)。    干擾效應(yīng)也稱(chēng)基體效應(yīng)，又稱(chēng)共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng)，指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響，在光譜分析中能引起譜線(xiàn)的強(qiáng)度變化，導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差，這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個(gè)問(wèn)題。

分析試樣和標(biāo)樣影響。    在實(shí)際工作中，分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過(guò)程和物理狀態(tài)存在一定的差異，所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線(xiàn)經(jīng)常出現(xiàn)變化，一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài)，分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài)，為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測(cè)分析的結(jié)果，經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過(guò)程和物理狀態(tài)保持一致，對(duì)試樣的分析結(jié)果進(jìn)行準(zhǔn)確的控制。