真空電鍍?cè)?

  電鍍廠需要一個(gè)向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽(yáng)極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽(yáng)極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤(rùn)濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下，經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子，并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過(guò)程。因此，這是一個(gè)包括液相傳質(zhì)、電化學(xué)反應(yīng)和電結(jié)晶等步驟的金屬電沉積過(guò)程。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會(huì)自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護(hù)性氣體，防止氧化反應(yīng)影響鍍層質(zhì)量。

　真空鍍膜能使原材料具有許多新的、的物理和有機(jī)化學(xué)特點(diǎn)。二十世紀(jì)七十年代，在物品表面上表面的表層的鍍膜的方法重要有電鍍法和化學(xué)鍍鎳法。前邊一種是依據(jù)插線，使鋰電鋰電池電解液電解水，被電解水的等離子噴涂到作為另一個(gè)電極的基本表面上，因此這類表面的表層的鍍膜的規(guī)范，基本盡量是電的良導(dǎo)體，而且塑料膜厚薄也沒(méi)法控制。后邊一種是采用有機(jī)化學(xué)還原法，盡量把膜材配備成溶液，并能迅速報(bào)考報(bào)名參加氧化還原反應(yīng)，這類表面的表層的鍍膜方法不僅塑料膜的結(jié)合抗拉強(qiáng)度差，而且表面的表層的鍍膜既不均勻也不易控制，此外還會(huì)繼續(xù)再次導(dǎo)致許多的污水，造成 情況嚴(yán)重的空氣污染。因此，這二種被大伙兒稱之為濕式表面的表層的鍍膜法的表面的表層的鍍膜制作工藝遭到了十分大的限制。

真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。由于真空熱處理時(shí)，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對(duì)流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。更為可貴的是，真空熱處理在生產(chǎn)過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生任何污染環(huán)境的物質(zhì)，從而被大家公認(rèn)屬于清潔生產(chǎn)技術(shù)范疇?？梢院敛豢鋸埖卣f(shuō)，真空熱處理已成為當(dāng)前先進(jìn)熱處理生產(chǎn)技術(shù)的主要標(biāo)志。