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一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體
元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U) 厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物
一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um
X射線熒光鍍層厚度分析儀基本原理
X射線熒光就是被分析樣品在X射線照射下發(fā)出的X射線,它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息,通過(guò)對(duì)X射線熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí),對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來(lái)說(shuō),都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu),其核外電子都以其特有的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線照射下脫離原子的束縛,成為自由電子,這時(shí)原子被激發(fā)了,處于激發(fā)態(tài)。此時(shí),其他的外層電子便會(huì)填補(bǔ)這一空位,即所謂的躍遷,同時(shí)以發(fā)出X射線的形式放出能量。005um江蘇一六儀器X熒光測(cè)厚儀測(cè)試要求:工作要求:1環(huán)境溫度要求:15℃-30℃2環(huán)境相對(duì)濕度:<。
由于每一種元素的原子能級(jí)結(jié)構(gòu)都是特定的,它被激發(fā)后躍遷時(shí)放出的X射線的能量也是特定的,稱之為特征X射線。通過(guò)測(cè)定特征X射線的能量,便可以確定相應(yīng)元素的存在,而特征X射線的強(qiáng)弱(或者說(shuō)X射線光子的多少)則代表該元素的含量。
一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法 X射線熒光鍍層測(cè)厚儀
應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
定位方式:
1、移動(dòng)平臺(tái):
A、手動(dòng)(普通和帶精密滑軌移動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.5mm-0.005mm不等,移動(dòng)的靈動(dòng)性差距也很大。
B、電動(dòng)(自動(dòng)):裝配設(shè)計(jì)不同精準(zhǔn)移位從0.2mm-0.002mm不等
但同樣的手動(dòng)或者自動(dòng),其定位精準(zhǔn)也相差很多。
2、高度定位:
A、手動(dòng)變焦和無(wú)變焦
B、激光對(duì)焦和CCD識(shí)別對(duì)焦
軟件算法
?大致分為3個(gè)方法。一個(gè)是制作測(cè)量線的方法(經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法)。這個(gè)方法是測(cè)定幾點(diǎn)實(shí)際的已知厚度樣品,尋求想測(cè)定元素的熒光X射線強(qiáng)度和厚度之間的關(guān)系,以其結(jié)果為基礎(chǔ)測(cè)定未知樣品取得熒光X射線,從而得到濃度值。
?另一個(gè)方法是理論演算的基礎(chǔ)參數(shù)法(FP法)。這個(gè)方法在完全了解樣品的構(gòu)成和元素種類前提,利用計(jì)算的各個(gè)熒光X射線強(qiáng)度的理論值,推測(cè)測(cè)定得到未知樣品各個(gè)元素的熒光X射線強(qiáng)度的組成一致。
?NBS-GSC法也稱作理論Alpha系數(shù)法。它是基于熒光X射線激發(fā)的基本原理,從理論上使用基本物理參數(shù)計(jì)算出樣品中每個(gè)元素的一次和二次特征X射線熒光強(qiáng)度的?;诖嗽儆?jì)算Lachance綜合校正系數(shù),然后使用這些理論α系數(shù)去校正元素間的吸收增強(qiáng)。它與經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法不同,這些校正系數(shù)是從“理論”上取得的,而非建立在“經(jīng)驗(yàn)”上。因而它也不需要那么多的標(biāo)樣,只要少數(shù)標(biāo)樣來(lái)校準(zhǔn)儀器因子。x射線熒光膜厚測(cè)厚儀可用于電力行業(yè)高壓開(kāi)關(guān)柜所用的鍍銀件厚度測(cè)試,鍍錫測(cè)試。
在我們的售前服務(wù)工作中,客戶通常都會(huì)拿一些在其它機(jī)構(gòu)或者儀器測(cè)量過(guò)的樣品來(lái)與我們儀器進(jìn)行測(cè)試結(jié)果對(duì)比,在確認(rèn)雙方儀器都是正常的情況下,會(huì)存在或多或少的差異,那么我們務(wù)必要把這個(gè)差異的來(lái)源分析給客戶,我們?cè)诜治鲋笆紫纫o客戶解說(shuō)測(cè)試的基本原理,告知此儀器為對(duì)比分析測(cè)試儀器,然后再談?wù)`差來(lái)源,主要來(lái)源:
1、標(biāo)樣:對(duì)比分析儀器是要求有越接近于需測(cè)試樣品的標(biāo)樣,測(cè)試結(jié)果越接近實(shí)際厚度。確認(rèn)雙方有沒(méi)有在標(biāo)定和校正時(shí)使用標(biāo)樣?使用的是多少厚度的標(biāo)樣?
2、樣品材料的詳細(xì)信息:如Ni/Cu的樣品,如果一家是按化學(xué)Ni測(cè)試,一家是按純Ni測(cè)試;Au/Ni/Cu/PCB樣品,一款儀器受Br干擾,一款儀器排除了Br干擾。
3、測(cè)量位置、面積:確定在同一樣品上測(cè)試的是否同一位置,因?yàn)闃悠吩陔婂儠r(shí)因電位差不同,各部位厚度是有差異的;確認(rèn)兩款儀器測(cè)量面積的大小有多少差異。
4、樣品形狀:測(cè)量的樣品是否是兩款儀器都可測(cè)量,或者放置位置是否合適,如突出面有無(wú)擋住設(shè)備接收。