從光刻機(jī)還是蝕刻機(jī)，至少可以看得出來國產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成就。

中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機(jī)的量產(chǎn)，直接邁入世界行列，5nm蝕刻機(jī)也在實(shí)驗(yàn)階段。而光刻機(jī)方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機(jī)與蝕刻機(jī)紛紛取得進(jìn)展，也將成為如果挑戰(zhàn)臺積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實(shí)現(xiàn)芯片研發(fā)國產(chǎn)化、加工制造本土化。那個時候，將會造福諸如華為、小米、OV等國產(chǎn)手機(jī)。

     其次蝕刻機(jī)的均勻性對蝕刻產(chǎn)品影響也比較大。蝕刻機(jī)的均勻要可以調(diào)節(jié)，那么就要讓噴淋管能實(shí)現(xiàn)獨(dú)立壓力控制，這樣根據(jù)不同尺寸的產(chǎn)品對壓力進(jìn)行微調(diào)（大尺寸的板水池效應(yīng)大），從而得到一個較佳的均勻性。通常設(shè)備精度好不好，就是通過蝕刻均勻性好不好來衡量的。

      由于蝕刻是一個放熱 的化學(xué)反應(yīng)，所以完善冷卻系統(tǒng)是很有必要的，而且冷卻管表面積需要符合滿載的時的放熱量的及時冷卻，溫度不宜超過2度，超過2度以上還不能冷卻到設(shè)定溫度，說明設(shè)計(jì)冷卻盤的面積過小，滿載生產(chǎn)時會出現(xiàn)超溫導(dǎo)致必須停止生產(chǎn)。

每片的厚度大約便是10納。米，現(xiàn)在國際前進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭的AL公司。小到，10納米。臺積電買的都是它的光刻機(jī)，AL公司實(shí)踐上是美，國、荷蘭、德國等多個技能協(xié)作的效果，由于這方面的，研討難度太大。單個完畢不了，除了AL，國際上只需，咱們還在光刻機(jī)上盡力研制，咱們是遭到技能禁運(yùn)的，不能買他進(jìn)的產(chǎn)品，國內(nèi)，上海量產(chǎn)的是90納米的光刻機(jī)，技能上有距離。2017年，長。春光機(jī)所“極紫外光”技能打破。估計(jì)能抵達(dá)22-32納，技能距離縮小了，我信任，不久的將來，咱們的科技人員一定能研制出生，界的光刻機(jī)。

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