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微弧氧化技術要求聯系方式 日照微弧

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發(fā)布時間:2020-12-19 18:27  






微弧氧化技術的特點

1、大幅度地提高了材料的表面硬度,顯微硬度在 1000 至 2000hv ,高可達 3000hv ,可與硬質合金相媲美,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;

2、有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達 100m ω。

3、溶液為環(huán)保型,符合環(huán)保排放要求。

4、工藝穩(wěn)定可靠 , 設備工藝簡單, 。

5、 反應在常溫下進行,操作方便,易于掌握。



        微弧氧化膜具有特殊的多孔質結構,使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應用潛力,如在微弧氧化膜的細孔中填充潤滑性物質,可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多,有待于系統而深入地研究,以弄清楚各因素對膜性能的影響規(guī)律,使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現性。陽極氧化工藝中所產生的污染物較多,在倡導環(huán)保的大環(huán)境下企業(yè)又要兼顧自身成本,由此陽極氧化的處境可謂是岌岌可危。 微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線



溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響

       1、微弧氧化溶液溫度低時,氧化膜的生長速度較快,膜致密,性能較佳。但溫度過低時,氧化作用較弱,膜厚和硬度值都較低。

       2、微弧氧化溶液溫度過高時,堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強,致使膜厚與硬度顯著下降,且溶液易飛濺,膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好,這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

       3、溶液酸堿度:酸堿度過大或過小,溶解速度都加快,氧化膜生長速度減慢,所以一般選擇弱堿性溶液。

       4、溶液濃度:溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源



     微弧氧化的起源

       微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,前蘇聯從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用,九十年代初國內開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。微弧電泳復合膜層的附著力等級為1級,相對于直接電泳有機層的附著力有很大提高。(壓鑄件氧化,鋁鎂合金硬質氧化,硬質氧化)微弧氧化技術原理、微弧氧化生產線、微弧氧化電源




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