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電子廠廢氣處理多重優(yōu)惠

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發(fā)布時間:2020-07-31 19:18  







常用的有機廢氣處理工藝

低溫等離子體技術  

(1)工作原理

低溫等離子廢氣處理設備里的介質(zhì)阻擋放電過程中,等離子體內(nèi)部產(chǎn)生富含極高化學活性的粒子,如電子、離子、臭氧和激發(fā)態(tài)分子等。理論上有機廢氣與這些具有較高能量的活性基團發(fā)生反應,部分會被裂解,1終轉(zhuǎn)化為二氧化碳和水等物質(zhì),從而達到凈化廢氣的目的。

(2)主要問題

現(xiàn)大量使用的小功率低溫等離子體是過去餐廚行業(yè)用于油煙處理的,其不適合VOCs處理,且生成副產(chǎn)物和大量的臭氧,會拉弧引燃VOCs等問題。






噪音污染它是接近或超過人類聽覺容許極限的聲音污染。它能影響和改變?nèi)梭w的正常生理狀態(tài),甚至誘發(fā)疾病。

當活性炭吸附達到飽和后,對飽和的活性炭床進行脫附再生;通入水蒸汽加熱炭層,VOC被吹脫放出,并與水蒸汽形成蒸汽混合物,一起離開活性炭吸附床,用冷凝器冷卻蒸汽混合物,使蒸汽冷凝為液體。

可用于各種烘道、印鐵制罐、表面噴涂、印刷油墨、電機絕緣處理、皮鞋粘膠等烘干流水線,凈化各工序產(chǎn)生的有機廢氣。





廢氣處理工藝——光催化氧化工藝

光催化氧化工藝簡介

光化學和光催化氧化法是目前研究較多的一種高1級氧化技術。光催化反應即在光的作用下進行的化學反應。分子吸收特定波長的電磁輻射后,是分子達到激發(fā)態(tài),然后發(fā)生化學反應,產(chǎn)生新的物質(zhì),或成為熱反應的引發(fā)劑。

光催化氧化工藝原理及流程

VOCs廢氣處理9大工藝、適用范圍、成本控制

Ti02作為一種半導體材料其自身的光電特性決定了它可以用作光催化劑。半導體的能帶結(jié)構(gòu)通常是一個電子填充低能量價帶(VB)和一個空的高能量的導帶(CB),導帶和價帶之間的區(qū)域被稱為禁帶。

當照射半導體的光能量等于或大于禁帶寬度時,其價帶電子被激發(fā),跨過禁帶進入導帶,并在價帶中產(chǎn)生相應空穴。電子從價帶激發(fā)到導帶,激發(fā)后分離的電子和空穴都有一部分進一步進行反應。







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