渦凹曝氣機的用途介紹

      渦凹曝氣機是處理污水的一種曝氣設(shè)備。

      該設(shè)備安裝在曝氣室內(nèi)，曝氣機利用底部散氣葉輪的高速轉(zhuǎn)動，在水中形成一個真空區(qū)，液面上的空氣通過曝氣機進入水中，微泡隨之產(chǎn)生，在葉輪的強力攪動下螺旋地上升到水面。

      污水在上升過程中與曝氣機產(chǎn)生的微氣泡充分混合，在曝氣機前加入混凝劑、絮凝劑，在混凝劑和絮凝劑的共同作用下，破壞了污水中膠體微粒的穩(wěn)定性，從而促進膠體互相接觸，發(fā)生物理絮凝和化學絮凝，形成絮狀物。葉輪曝氣機可以處理懸浮物（SS）含量高達5000-20000mgL的廢水，這個指標是任何傳統(tǒng)氣浮所不能達到的。利用曝氣室的渦凹旋流，和密集的細小氣泡形成有機的結(jié)合，隨著‘絮團’在曝氣室內(nèi)的上升，并形成更大的絮凝體。

      絮凝體與水固液分離并在水面富集，在水流的推動下，由刮泥機沿液面將懸浮物推進污泥排放系統(tǒng)。

      渦凹曝氣機不需要清理噴嘴，不會發(fā)生阻塞現(xiàn)象。浮筒曝氣機質(zhì)量,浮筒曝氣機質(zhì)量

曝光機的工作原理

曝光機是集電子光學、電氣、機械、真空、計算機技術(shù)等于一體的復(fù)雜的半導(dǎo)體加工設(shè)備，70年代以后廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路制造業(yè)，是在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光。

曝光機在計算機的控制下，利用聚焦電子束對有機聚合物進行曝光，受電子束輻照后的光刻膠，其物理化學性質(zhì)發(fā)生變化，在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區(qū)域，從而在抗蝕劑上形成精細圖形。

曝光機主要用于半導(dǎo)體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學，微機電系統(tǒng)，凹凸或覆晶設(shè)備和其他要求精細印制和精度對準的技術(shù)要求。浮筒曝氣機質(zhì)量,浮筒曝氣機質(zhì)量

?渦凹曝氣機設(shè)備的選擇和安裝：

公司協(xié)助用戶選擇渦凹曝氣機，用戶應(yīng)提供池型，介質(zhì)特性，所需的進氣量，潛水深度等相關(guān)數(shù)據(jù)，使公司的設(shè)計和提供的設(shè)備，更好的滿足用戶的需求。渦凹曝氣機的安裝形式有自耦合和移動兩。自耦安裝曝氣裝置和專用座固定在池底，池頂安裝支撐件與導(dǎo)軌，使兩者緊密相連，潛水電泵和特定的支架連接好后沿導(dǎo)軌上滑下出口位置的基礎(chǔ)上，通過泵的重量，自動耦合、密封?；钚晕勰嗟奈?，一個需求返回局部，循環(huán)池進一步氧化合成的引入，恢復(fù)其活性。無需安裝或維修人員進入水坑自耦安裝可以提高電泵安裝。移動安裝渦凹曝氣機安裝在罐底，根據(jù)定位的重量，安裝位置可以改變，靈活，成本低的優(yōu)點。浮筒曝氣機質(zhì)量,浮筒曝氣機質(zhì)量

渦凹曝氣機說明

(1)必須仔細閱讀說明書，避免使用不當而損壞機器。仔細檢查自吸式渦凹曝氣器的選擇是正確的，是否統(tǒng)一使用和使用條件的具體條件的規(guī)定。

(2)清洗水槽或通道，防止雜物進入通氣口。

(3)由一個電工，用兆歐表檢查電動機絕緣0-500v，主電纜三芯線對地電阻不得低于5000000000000歐，禁止兆歐表檢查電氣元件控制電纜的使用，以避免損壞增氧機內(nèi)部，而應(yīng)用萬用表檢查控制電纜。

(4)范圍檢查電壓必須在額定電壓的±5%銘牌標記。如果電源遠離自吸式渦凹曝氣時考慮距離，線損，電纜的截面積應(yīng)加大，接頭應(yīng)盡可能小，與接頭密封，防止漏水;另外要考慮維護的方便性，建議設(shè)置機側(cè)接線盒。

(5)自吸式渦凹曝氣機配有專用控制柜，使用前應(yīng)仔細閱讀說明書，檢查設(shè)備接線是否正確，起動裝置是否靈活，接觸良好，啟動設(shè)備的金屬外殼可靠接地，檢查所有的接線松動，并緊固A。

(6)自吸式渦凹曝氣對電力電纜，接地和控制電纜應(yīng)與控制柜(箱)的連接頭一一對接，如圖1所示。

(7)自吸渦凹曝氣器的接地線雙色線(黃/綠)，為了確保安全，必須牢固連接，并比其他長度50mm更方便。

(8)檢查葉輪旋轉(zhuǎn)方向。浮筒曝氣機質(zhì)量,浮筒曝氣機質(zhì)量