鈦金真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享金屬表面鍍膜

金屬表面鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某類金屬材料或非金屬材料以氣相的形式沉積到材料表面，產(chǎn)生一層層高密度的塑料薄膜。各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。隨之社會(huì)發(fā)展的進(jìn)步和科技的發(fā)展趨勢(shì)，金屬制造在工業(yè)、農(nóng)業(yè)及其大家的衣食住行各行各業(yè)的應(yīng)用更加廣泛應(yīng)用，也給社會(huì)發(fā)展造就越來越大的價(jià)值。金屬制品暴露在空氣中是很易于被空氣氧化和被金屬腐蝕的，在金屬表面鍍膜是一種維護(hù)金屬不被氧化腐蝕的方式。

恒緣鈦金廠將竭誠(chéng)為您提供周到的表面處理加工服務(wù)。歡迎您致電圖片上方的聯(lián)系方式。

恒緣鈦金與您分享PVD離子鍍膜優(yōu)點(diǎn)

PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：

A.膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨

B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件0v R0S4

C.膜層沉積速率快，生產(chǎn)

D.可鍍膜層種類廣泛

E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認(rèn)證，可植入人體).

恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源

離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。

陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長(zhǎng)方形或圓形）窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng)，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。由于基材不一樣，其前期所處理的工藝完全不一樣，但是后續(xù)電鍍基本都一樣。陽極層離子源可以做得很大很長(zhǎng)，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于髙級(jí)光學(xué)鍍膜并不太多。

考夫曼離子源是應(yīng)用較早的離子源。例如，不銹鋼件拋光時(shí)，零件的不銹鋼成分、特性、金相組織結(jié)構(gòu)以及表面的狀況是確定的，但使用的電拋光液的成分及配方、拋光工藝條件等會(huì)相互影響。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內(nèi)腔產(chǎn)生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產(chǎn)生的離子方向性強(qiáng)，離子能量帶寬集中，可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜中。缺點(diǎn)是陰極（往往是鎢絲）在反應(yīng)氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對(duì)需要大離子流量的用戶可能不適和。

霍爾離子源是陽極在一個(gè)強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個(gè)軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)的作用太強(qiáng)，霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。

恒緣鈦金與您分享

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)， 在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。東莞千屹真空電鍍的師傅說，脫脂除油以及酸洗是電鍍前處理里面的一道工序。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無污 染，是綠色環(huán)保工藝;對(duì)操作者無傷害;膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。

真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積， 簡(jiǎn)稱為PVD。而拋光的目的是為了降低工件表面的粗糙度，使產(chǎn)品的外觀更加光亮，拋光一般分為機(jī)械拋光、化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光等方式。與之對(duì)應(yīng)的化學(xué)氣相沉積簡(jiǎn)稱為CVD技術(shù)。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”(ion plating)離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。