鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：

烘烤溫度：真空室抽氣時(shí)烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空氣和水氣，這是保證膜色調(diào)純正的重要因素之一。要注意的是，我們的設(shè)備一般采用加熱棒烘烤，以熱電偶測(cè)溫，熱電偶的感溫端位置不能靠近發(fā)熱棒，否則不能反映爐內(nèi)環(huán)境和工件的實(shí)際溫度。

離子轟擊：指利用高能高密度的金屬離子流和ya離子流對(duì)工件進(jìn)行離子轟擊清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件溫升過(guò)熱退火和轟出表面缺陷。

佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

有機(jī)鍍膜與無(wú)機(jī)鍍膜的根本區(qū)別

有機(jī)物王要指含有碳、氫兩種元素的化合物，容易氧化、可燃燒、會(huì)降解。有機(jī)物的熔點(diǎn)較低，一般不超過(guò)400℃，熱穩(wěn)定性差，容易受熱分解。比如含有j基（Me化學(xué)式-CH3)的化合物，因成分中含有碳?xì)浠鶊F(tuán)，都屬于有機(jī)類物質(zhì)。無(wú)機(jī)物指不含碳元素的純凈物，其特點(diǎn)：1。一般不含碳元素2。分子較小3。通常不可燃燒。離子鍍工藝則有所不同，雖然也是在真空罩內(nèi)進(jìn)行的，但這時(shí)鍍膜過(guò)程是以電荷傳遞的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)的。如二氧化硅（SiO2），中文別名r石英砂，屬于無(wú)機(jī)物。二氧化硅Sio2的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)較高（熔點(diǎn)1723℃，沸點(diǎn)2230℃）。