平面拋光研磨機(jī)的日常保養(yǎng)工作

平面拋光研磨機(jī)的日常保養(yǎng)工作 平面拋光研磨機(jī)的應(yīng)用越來越廣泛，在光學(xué)玻璃、五金制品、金銀飾品、陶瓷工藝品等均有使用。平面拋光研磨機(jī)通過研磨、拋光對(duì)工件表面的瑕疵、毛刺去除，然后達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)厚度、光潔度。不過今天，我們主要來探討如何保養(yǎng)平面拋光研磨機(jī)。 首先，當(dāng)平面拋光研磨機(jī)工作完畢后建議將設(shè)備以及研磨夾具等進(jìn)行清洗干凈，防止研磨液殘留在設(shè)備表面造成損壞。其次，當(dāng)平面拋光研磨機(jī)放置時(shí)間較長時(shí)，定期用潤滑油對(duì)研磨盤、研磨配件等進(jìn)行潤滑，以免出現(xiàn)生銹影響精度。后，定期檢修設(shè)備的硬件，檢查研磨機(jī)的研磨盤、管路、電源等是否處于正常狀態(tài)。

雙面研磨拋光機(jī)的使用操作,你做對(duì)了幾點(diǎn)?

雙面研磨拋光機(jī)的使用操作，你做對(duì)了幾點(diǎn)？ 雙面研磨拋光機(jī)廣泛應(yīng)用于各種材料的雙面研磨拋光，像東研自主研發(fā)的ZS1200B-S、ZS930B-S、ZS640B-S以及ZS460B-S系列的雙面研磨拋光機(jī)研磨拋光后可達(dá)到≤0.002mm的平面誤差。 然而，在實(shí)際應(yīng)用中，有些用戶往往會(huì)忽略拋光設(shè)備的正確使用方法，導(dǎo)致設(shè)備在研磨拋光的過程中出現(xiàn)各種故障。接下來，一起隨小編看看雙面研磨拋光機(jī)的使用方法你正確了幾點(diǎn)呢？ 點(diǎn)雙面研磨拋光機(jī)的拋光率要達(dá)到，這樣便可以盡快消除產(chǎn)生的損傷層。而且粗拋和精拋這兩道工序前后需正確也不可任意省略其中一道工序。粗拋主要目的是去除磨光損傷層，精拋主要是消除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，達(dá)到拋光損傷的目的。 第二點(diǎn)要注意拋光過程中試樣磨面與拋光盤要平行并均勻輕壓在拋光盤上，同時(shí)要避免試樣飛出和因壓力太大出現(xiàn)新的劃痕。

平面研磨機(jī)研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹

關(guān)于平面研磨機(jī)研磨盤的目數(shù)代表的含義介紹 隨著平面研磨機(jī)使用范圍越來越廣泛，但許多剛剛接觸這行業(yè)的人并不了解什么是研磨盤的目數(shù)代表的是什么意思。下面就來簡單介紹一下！ 在單位面積內(nèi)，研磨顆粒的顆粒數(shù)，指的是研磨盤內(nèi)顆粒的大小。比如說80目、200目、300目、600目等等。目數(shù)值越大，代表的是顆粒細(xì)微程度越小，研磨出的越細(xì)膩，從而讓產(chǎn)品表面粗糙度更細(xì)膩，達(dá)到平面效果，按產(chǎn)品種類再使用拋光皮或者拋光布進(jìn)行拋光，便能呈現(xiàn)出精密的鏡面效果。 這時(shí)候，很多人就會(huì)有疑問，那都用高目數(shù)的就好了。低目數(shù)沒什么作用了嗎。其實(shí)并不然，因?yàn)槠矫嫜心C(jī)治具上放上許多產(chǎn)品，然而有的產(chǎn)品與產(chǎn)品的厚度相差幾個(gè)絲，這時(shí)便能用目數(shù)較大的研磨盤進(jìn)行開粗，使得平面研磨機(jī)的研磨時(shí)間縮短，增加效益。

淺析硅片拋光機(jī)的兩種拋光方式

淺析硅片拋光機(jī)的兩種拋光方式 硅片拋光機(jī)如何解決這個(gè)矛盾的的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過也應(yīng)當(dāng)盡可能??；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到。 硅片拋光機(jī)不是碾除整體的糠層，是通過碾除細(xì)微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉細(xì)粒，拋光機(jī)拋光和碾白從工作方面比較存在著很大的差別，拋光機(jī)拋光壓力很低，拋光機(jī)拋光米粒的時(shí)候流體密度很小，拋光時(shí)米粒離開鐵輥的速度很快，而且拋光機(jī)單位產(chǎn)量拋光運(yùn)動(dòng)面積很大。