溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。微弧氧化電解液組成及工藝條件微弧氧化電解液組成：K2SiO35～10g/L，Na2O24～6g/L，NaF0。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源

        微弧氧化現象及特點

       在陽極氧化過程中，當鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時，鋁合金表面的氧化膜就會被擊穿。隨著電壓的繼續(xù)不斷升高，氧化膜的表面會出現輝光放電，微弧和火花放電燈現象。溶液電導率：溶液電導率對微弧氧化工業(yè)鋁型材的生長速度和致密度都有影響。其中只有微弧區(qū)的溫度適中，既可使氧化膜的結構發(fā)生變化，又不造成鋁合金材料表面的受損，微弧氧化就是利用這個溫度區(qū)對材料表面進行改性處理的。微弧氧化技術特點、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化

      微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。了解電ji穿原理，對于研究微弧氧化機理，開發(fā)新的表面處理技術均有著重要的理論意義。微弧氧化原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極，利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點，在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化工藝