潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。所以，前聯(lián)邦德國有人稱單向流潔凈室的氣流為“活塞流”、“平推流”前蘇聯(lián)稱之為“被擠壓的弱空氣射流”。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

氣壓規(guī)定對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個新風(fēng)量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

根據(jù)潔凈室凈化工程擬生產(chǎn)的產(chǎn)品的門類、品種或使用情況，確定所設(shè)計潔凈室凈化工程的控制對象及技術(shù)要求。面不同產(chǎn)品或用途的生物潔凈室凈化工程，對空氣潔凈度等級、空氣中含有的微生物種類和濃度、壓差等的要求是不問的。如對生物潔凈室凈化工程，其控制對象是空氣中的塵粒、微生物；面不同產(chǎn)品或用途的生物潔凈室凈化工程，對空氣潔凈度等級、空氣中含有的微生物種類和濃度、壓差等的要求是不問的。又如集成電路生產(chǎn)用潔凈室凈化工程．其控制對象主要是空氣中的塵粒；按集成電路的特征尺寸、集成度的不同，對空氣潔凈度等級、防微振、高純物質(zhì)等的要求是不同的，應(yīng)披具體工廠的產(chǎn)品品種確定。

凈化區(qū)內(nèi)搬運物料及機具搬運應(yīng)輕拿輕放，防止碰撞壁板或頂板。(3)混合照明這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設(shè)計規(guī)范》應(yīng)占總照度的10%—15%，但不低干150LX。工具或材料搬運時必須完全離開地面，不得在地面上拖行。管道等長度≥1.5米的材料必須由兩人進(jìn)行搬運，一人拿一端，不得一人獨自搬運；凈化區(qū)使用的腳手架必須清掃干凈、踏板必須用保鮮膜包裹好，每個腳手架上必須配備一套清掃工具。所有設(shè)備（包括腳手架、推車等）車輪必須是橡膠輪子，而且輪子必須用透明膠帶纏緊；不得在凈化室進(jìn)行任何電焊、鉆孔、切割、打磨等加工作業(yè)，不得已時需向業(yè)主申請并做好防護(hù)措施

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