微弧氧化為什么要進(jìn)行預(yù)處理

      鋁、鎂、鐵等輕金屬進(jìn)行微弧氧化處理，需要進(jìn)行預(yù)處理，是因?yàn)殚L期露在空氣中表面易發(fā)生氧化，容易形成一層鈍化膜，同時(shí)，鋁、鎂、鈦等輕金屬容易吸附一些雜志，為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能，所以給鋁、鎂、鈦等輕金屬進(jìn)行微弧氧化前進(jìn)行預(yù)處理是很有必要的，是為了保證微弧氧化的效果。微弧氧化技術(shù)就是在電ji穿理論的基礎(chǔ)上加以研究和應(yīng)用的新型表面力一技術(shù)。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化技術(shù)原理、微弧氧化工藝

微弧氧化技術(shù)原理

       將工件（鋁、鎂、鈦、鋯及其合金）和不銹鋼（或石墨）板置于電解質(zhì)水溶液中，工件接電源正極，不銹鋼（或石墨）板接電源負(fù)極，電源接通后工件表面發(fā)生陽極鈍化生成高阻kang氧化膜，隨著氧化膜增厚以及外加電壓的不斷增加，高電場強(qiáng)度使得氧化膜內(nèi)部及表面電荷積累變得嚴(yán)重。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來的電場發(fā)生畸變，使局部電場加強(qiáng)，導(dǎo)致氧化膜擊穿，產(chǎn)生火花放電。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來的電場發(fā)生畸變，使局部電場加強(qiáng)，導(dǎo)致氧化膜擊穿，產(chǎn)生火花放電。當(dāng)氧化膜被擊穿后，就會形成基體金屬離子和溶液中活性氧離子等物質(zhì)擴(kuò)散轉(zhuǎn)移的通道，基體金屬離子和氧離子，在電化學(xué)、熱化學(xué)和等離子體化學(xué)的共同作用下，生成氧化物陶瓷。

微弧氧化的發(fā)展

      由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎(chǔ)上進(jìn)行的，所以在探討微弧氧化機(jī)理時(shí)我們要結(jié)合電ji穿理論的研究和發(fā)展，從而闡述微弧氧化基本原理。微弧氧化技術(shù)就是在電ji穿理論的基礎(chǔ)上加以研究和應(yīng)用的新型表面力一技術(shù)。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來，許多研究者都對電ji穿產(chǎn)生的原因 過各種各樣的假設(shè)和模型?？蓪㈦娊庖翰捎醚h(huán)對流冷卻的方式進(jìn)行，既能控制溶液溫度，又達(dá)到了攪拌電解液的目的?？傮w上看，電ji穿理論經(jīng)歷了離子電流機(jī)理、熱作用機(jī)理、機(jī)械作用機(jī)理以及電子雪崩機(jī)理等不同的發(fā)展階段。了解電ji穿原理，對于研究微弧氧化機(jī)理，開發(fā)新的表面處理技術(shù)均有著重要的理論意義。

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對微弧氧化會有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。