利用新納米技術(shù)開(kāi)發(fā)的功能金屬氧化物薄膜材料（Functional Thin-Film metal-Oxides Materials，具有優(yōu)良的電磁傳導(dǎo)、物理化學(xué)和機(jī)械性能，可廣泛應(yīng)用于節(jié)能照明、顯示電子、化合物檢測(cè)、柔性透明和氣體傳感等領(lǐng)域，具有開(kāi)啟后硅基半導(dǎo)體電子新時(shí)代的巨大潛力。歐盟第七研發(fā)框架計(jì)劃（FP7）提供980萬(wàn)歐元資助，總研發(fā)投入1340萬(wàn)歐元，由歐盟8個(gè)成員國(guó)德國(guó)（總協(xié)調(diào)）、英國(guó)、意大利、比利時(shí)、荷蘭、葡萄牙、希臘和斯洛文尼亞，微納米電子工業(yè)界聯(lián)合科技界組成的歐盟微納米電子技術(shù)平臺(tái)（ORAMA ETP）。在建立緊密合作型研發(fā)創(chuàng)新公私伙伴關(guān)系（PPP）的同時(shí)，將長(zhǎng)期致力于功能金屬氧化物薄膜材料的研制開(kāi)發(fā)及商業(yè)化推廣應(yīng)用。使被鍍物具備以下特性:無(wú)細(xì)孔、防水、防潮、耐酸堿、抗鹽霧、高抗壓、絕緣、生物兼容性等?！?

首飾振動(dòng)電鍍以濺射的方法進(jìn)行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會(huì)不一樣的，雖然肉眼無(wú)法看出來(lái)，但確實(shí)擁有一定的優(yōu)勢(shì)。 膜厚穩(wěn)定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關(guān)系，電流越高，濺射效率越大，相同時(shí)間內(nèi)，所鍍膜層的厚度相對(duì)就大了，因?yàn)橹灰央娏鲾?shù)值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了。這些透明的聚合物實(shí)際上是高結(jié)晶和線性的，具有優(yōu)異的介電和屏蔽性能，以及化學(xué)惰性，而且致密無(wú)。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對(duì)作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來(lái)產(chǎn)品外觀損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。

 為什么要在真空鍍膜工藝之前在基材表面先噴一層底漆呢？普遍的是在太陽(yáng)光下看手機(jī)屏的字，由于反射光透不強(qiáng)，屏幕模糊，這需要屏幕的光學(xué)鍍膜來(lái)達(dá)到透射清晰效果。因?yàn)樗芰匣耐獗砜赡懿黄交?，如果沒(méi)有先噴底漆直接使用高真空鍍膜的話，如果客人要求很高，產(chǎn)品可能會(huì)因?yàn)楣ぜ獗聿还饣?，而使加工出?lái)的產(chǎn)品光澤度相對(duì)會(huì)低一點(diǎn)，金屬質(zhì)感相對(duì)也會(huì)有所下降，如果基料有氣泡，水泡這狀況更高明顯，就無(wú)法滿足客人需求。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。