在光學鍍膜材料的應用上，鍍膜靶材是核心技術，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學鍍膜材料，普遍應用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學原件中鍺、、硒化鋅等應用廣泛。納米鍍膜機的工藝流程，塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。

隨著鍍膜技術的不斷推廣，光學鍍膜技術的應用領域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

電鍍按技術分類可分為蒸鍍、濺鍍、槍色等，水電鍍因技術較簡略，從設備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，然后被廣泛使用。但水電鍍有個缺陷，只能鍍ABS料和ABS PC料(此料鍍的效果也不是很理想).而ABS料耐溫只需80℃,這使得它的使用規(guī)劃被約束了，而真空電鍍可達200℃分配，這對運用在高溫的部件就可以進行電鍍處理了.像風嘴、風嘴環(huán)運用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫，通常要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在畢竟噴一層UV油，這么使得商品外表既有光澤、有能耐高溫、同時又加強其附著力。帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠不能與熱浸鍍、電鍍相比。

塑料中含有水分、殘留溶劑、單體、低聚合物、增塑劑等，揮發(fā)性小分子會在真空或升溫環(huán)境下逸出表面，嚴重影響真空鍍層對基材的附著力，而采用底涂技術就可阻礙這些小分子的逸出，提高真空鍍層對基材的附著力。

塑料基材與真空鍍層通常為金屬)兩者熱膨脹系數(shù)相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過程中膜層容易，膜層越厚，的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過渡層，可以減少內應力的積累和的發(fā)生