真空鍍膜機(jī)的厚度均勻性主要取決于

1.基片材料與靶材的晶格匹配度

2.基片表面溫度

3.蒸發(fā)功率、蒸發(fā)率

4.真空度

5.涂層時(shí)間和厚度。

成分均勻性：蒸發(fā)涂層的成分均勻性不易保證?？烧{(diào)節(jié)的具體因素同上。但由于原理上的限制，非單組分涂層的蒸發(fā)涂層組分均勻性較差。

晶向均勻性：1、晶格匹配度  2、基片溫度  3、蒸發(fā)速率。

PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡(jiǎn)稱(chēng)，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱(chēng)靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見(jiàn)的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蝕性能的方法有添加合金元素和外加防護(hù)性鍍層,但主要以添加防護(hù)性鍍層(金屬鍍層、有機(jī)物鍍層和復(fù)合鍍層)為主。普通玻璃能透過(guò)絕大部分太陽(yáng)光輻射能量，這對(duì)采光和吸收太陽(yáng)光線(xiàn)的能量十分有利。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。添加鍍層的方法有電鍍、化學(xué)鍍、物理氣相沉積等。

真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。防護(hù)性鍍層可以阻礙腐蝕相與基體之間的相互接觸從而減緩磁體的腐蝕。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能，真空電鍍則沿著視線(xiàn)方向徐徐上升，后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無(wú)牢固的化學(xué)結(jié)合。汽車(chē)配件納米鍍膜設(shè)備

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結(jié)合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護(hù)金屬膜層的作用。