20世紀(jì)初，不銹鋼被引入到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域中，設(shè)計(jì)師們圍繞著它的堅(jiān)韌和抗腐蝕特性開(kāi)發(fā)出許多新產(chǎn)品，涉及到了很多以前從未涉足過(guò)的領(lǐng)域。這一系列設(shè)計(jì)嘗試都是非常具有革命性的：比如，消毒后可再次使用的設(shè)備出現(xiàn)在醫(yī)學(xué)產(chǎn)業(yè)中。

不銹鋼分為四大主要類型：奧氏體、鐵素體、鐵素體-奧氏體(復(fù)合式)、馬氏體。家居用品中使用的不銹鋼基本上都是奧氏體。

材料特性：衛(wèi)生保健、防腐蝕、可進(jìn)行精細(xì)表面處理、剛性高、可通過(guò)各種加工工藝成型、較難進(jìn)行冷加工。

熱噴涂是將金屬或非金屬材料加熱熔化，靠壓縮氣體連續(xù)吹噴到制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的涂層，從制件表層獲得所需要的物理化學(xué)性能。

利用熱噴涂技術(shù)可改善材料的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及絕緣性等。

應(yīng)用：航空航天、原子能、電子等技術(shù)在內(nèi)的幾乎所有領(lǐng)域。

真空鍍，就是在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。

通過(guò)真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快、附著力好、污染物少等優(yōu)點(diǎn)。

真空濺射鍍?cè)?/span>

按照工藝不同，真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。

物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類。