電子束蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)在于：

電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動(dòng)能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng)，薄膜的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料，但是對(duì)靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運(yùn)用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場(chǎng)，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡(jiǎn)單的一種，所以運(yùn)用非常廣。

今天至成真空小編，就為大家詳細(xì)的介紹一下DLC真空鍍膜機(jī)的運(yùn)用領(lǐng)域和大概分哪些種類，這樣能幫助大家對(duì)DLC真空鍍膜機(jī)有一個(gè)全新的認(rèn)識(shí)。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。

DLC鍍膜設(shè)備是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備可在該雙門上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。DLC鍍膜設(shè)備作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

電子束鋼帶真空鍍膜機(jī)有許多長(zhǎng)處有哪些

1、可選擇的鍍膜資料多而不受資料熔點(diǎn)約束。因而，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫以外，簡(jiǎn)直一切的金屬資料都能夠蒸鍍，還可鍍品種許多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為開展新式帶鋼資料供給了很大的自由度。

2、鍍膜資料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的發(fā)生。

3、帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能取得均勻、滑潤(rùn)且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱外表活化，鍍膜純度高，沒有中心硬脆的合金層，能夠一次沖壓成型，甚至能夠卷成直經(jīng)很小的管而不掉落鍍層。

4、技能靈敏，改動(dòng)品種方便，能夠依據(jù)商品請(qǐng)求靈敏地完成在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，能夠一同鍍兩種資料到達(dá)鍍混合膜。鍍膜厚度易于操控，并且能夠鍍制超薄膜。

電子束光學(xué)鍍膜機(jī)有哪些特點(diǎn)

在玻璃/PMMA/PC基片上形成光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。

基片傘架采用了每分鐘可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式(2臺(tái)電子槍，10kW型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。

采用本公司獨(dú)有的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控，可以形成且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。

可利用操作性良好的升降機(jī)來取出基片傘架。