為了解決標準氣體的均勻性問題，在配制時廳以采取如下措施，促進標準氣體混合均勻。（1）先混合后裝氣，在貯氣槽或大容器內(nèi)安裝螺旋槳等攪拌器，用壓力法或其他方法把氣體充入容器中攪拌，使氣體混合均勻。當各種氣體成分混合均勻后，用壓縮機把混合均勻的氣體充入高壓鋼瓶。但此法不適用于具有冷凝性的氣體。另外，氣體與容器內(nèi)壁之間存在著吸附與解吸過程，這對氣體成分的均勻分布也有影響。（2）加熱法，加熱能使不同氣體成分很快混均勻。但對裝有氣體的容器進行加熱時，其溫度不得超過40℃，一般使用40℃以下的溫水或用溫水浸過的毛巾來加熱。有時亦可使用紅外燈或電熱毯來加熱。

高純氣體必須滿足的條件

:1、主體成分含量必須大于某一定值。

2、各雜質(zhì)組分含量必須小于某一定值。 電子工業(yè)用氣、儀器儀表校準用的零點氣、標準氣配制用氣、色譜載氣等均需滿足以上要求, 可列為高純氣體。理論上, 高純氣體的純度= 主體成分含量= 1-∑ 雜質(zhì)含量。事實上, 用實驗方法直接準確測定高純氣體中主體成分含量是非常困難的。2017年5月2日，科技部印發(fā)《“十三五”先進制造技術領域科技創(chuàng)新專項規(guī)劃》中關鍵材料部分提到面向45-28-14納米集成電路工藝，重點研發(fā)包括超高純電子氣體和其他關鍵材料產(chǎn)品。既使象二氧化碳這類產(chǎn)品, 可以通過規(guī)定的方法, 直接測定得到“純度值”, 但該值也包含有水分、酸性氣體及其它與強堿作用的成分。所以說, 該“純度”也并非理論意義上的氣體純度。而另外一種通過測定氣體中所含有的所有雜質(zhì)成分, 計算求得氣體純度(理論純度) 的方法, 同樣難以實現(xiàn)。

針對腐蝕性、毒性、燃燒性的氣體，通常設計將鋼瓶置于氣瓶柜(Gas Cabinet)內(nèi)，再透過管路將氣體供應至現(xiàn)場附近的閥箱(VMB, Valve Manifold Box)，而后再進程入制機臺的使用點(POU, Point of Use)，更多氣體知識請關注氣體圈子微信：gasgroup于進入機臺腔體之前，會有獨立的氣體控制盤(GB, Gas Box)與制程控制模塊聯(lián)機，以質(zhì)流控制器進行流量之控制與進氣的混合比例控制，通常此氣體控制盤不屬于廠務系統(tǒng)的設計范疇，而是歸屬制程機臺設備的一部份。一般的惰性氣體則是以開放式的氣瓶架(Gas Rack)與閥盤(VMP, Valve Manifold Panel)進行供應。但此法的缺點是為達到均勻狀態(tài)所需要的時間較長，而且因氣體的種類、濃度不同而所需要的時間不同。

液化氣體的特點

液化氣體( Liquefied Gases )：在2111 ℃和罐裝壓力下部分液化的氣體?；蚨x為在正常溫度和172142～17237kPa 壓力下在氣瓶中液化的氣體。標準氣體主要用于儀器的校準，因此，在準備采購標準氣體前必須了解自己的儀器需要的標準氣體是什么組份和濃度，并將組份、濃度、包裝規(guī)格及特別要求告知標準氣體生產(chǎn)廠家。壓縮氣體(Compressed Gases) 　壓縮氣體是指在2111 ℃下, 在氣瓶中壓力超過27518kPa 的任何氣體或混合物; 或與2111 ℃下的壓力無關, 于5414 ℃下壓力超過717kPa 的任何氣體或混合物; 或于3718 ℃下氣體壓力超27518kPa 的任何液體。