X射線熒光光譜法原理研究

一六儀器  光譜測厚儀研發(fā)生產(chǎn)廠家  一六儀器一liu品質,可同時檢測多層材料鍍層厚度(含有機物)及成分.操作簡單方便.厚度含量測試只需要幾秒鐘,多小多復雜的樣品輕松搞定,歡迎來電咨詢!

X射線

   德國物理學家倫琴在研究稀薄氣體放電實驗時，采用了一種特殊裝置，此裝置發(fā)射電子，在陰極相對的位置裝置金屬陽極，在陰陽兩極之間加以高電壓，當容器充有稀薄氣體時，氣體中可觀察到放電現(xiàn)象，試驗中發(fā)現(xiàn)的這種未知射線，倫琴命名為X射線。在這個過程中,操作者首先對板材進行測量,但是操作者使用量尺的方式不同,就會造成補償值的大小不等,會形成人為的誤差。對X射線定義為：電子在原子核附近加速或核外內層電子能級間發(fā)生躍遷時所發(fā)射的電磁輻射。

一六儀器  國內外通力合作打造高性價比X熒光測厚儀  

一六儀器研發(fā)生產(chǎn)的X熒光光譜儀,穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),專利獨特聚焦和變距設計,多元EFP算法,簡便快速測試各種涂鍍層的厚度及成分比例

涂層測厚儀操作規(guī)程有哪些

   我們在使用涂層測厚儀時，如果不了解涂層測厚儀的操作規(guī)程，那么就很容易出現(xiàn)一些問題，甚至嚴重的可能會對自身產(chǎn)生威脅，那么涂層測厚儀的操作規(guī)程有哪些，下面就來了解下先：

  一、技術參數(shù)

  采用了磁性和渦流兩種測厚方法。通過選擇相應的測頭，即可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度，又可測量非磁性金屬基體上非導電覆蓋層的厚度；

  測量范圍：（0~1250）μm（F1、N1測頭），F(xiàn)10測頭可達10mm；

  分辨率：0.1μm（F1、N1測頭）

  示值精度：±（3％H 1）μm；H為被測涂層厚度

  顯示方法：高對比度的段碼液晶顯示，高亮度EL背光；

  存儲容量：可存儲20組（每組多50個測量數(shù)值）測量數(shù)據(jù)

  單位制：公制μm、英制（mil）、可自由轉換 ? 工作電壓：3V（2節(jié)5號堿性電池）

  持續(xù)工作時間：大于200小時（不開背光燈）

  通訊接口：USB1.1，可與PC機連接、通訊

X射線熒光的基本原理

鍍層測厚儀|光譜測厚儀|X-ray測厚儀|X熒光測厚儀|凃層膜厚儀---一六儀器  歡迎咨詢聯(lián)系

X射線熒光是由原級X射線照射待測樣品時所產(chǎn)生的次級X射線，入射的X射線具有相對較大的能量，使其可以轟擊出位于元素原子內層中的電子。X射線熒光光譜的波長在0.01-10納米之間，能量在124KeV-0.124KeV之間。eX射源安裝完畢，在開啟的狀態(tài)下，對周圍的射線輻射劑量進行檢測，在安全區(qū)不得超過人體當量的允許值（一般情況下是安全的）。用于元素分析中的X射線熒光光譜波長的范圍在0.01-11納米之間，能量為0.111-0.124KeV。

   當X射線激發(fā)出試樣特征X射線時，其入射電磁輻射能量必須大于某一個值才能引起其內層電子激發(fā)態(tài)從而形成空穴并引起電子的躍遷，這個值是吸收限，相當于內層電子的功函數(shù)。插拔測頭時，應捏住活動外套沿軸線用力，不可旋轉測頭，以避免損壞測頭電纜芯線。如果入射電磁輻射的能量低于吸收限則在任何情況下都不能激發(fā)原子內層電子并產(chǎn)生特征X射線。

一六儀器---鍍層測厚儀|光譜測厚儀|X-ray測厚儀|X熒光測厚儀|凃層膜厚儀

儀器規(guī)格：

 外形尺寸 ：550 mm x 480mm x 470 mm （長x寬x高）

 樣品倉尺寸 ：500mm×360 mm ×215mm （長x寬x高）

 儀器重量 ：55kg

 供電電源 ：交流220±5V

 da功率 ：330W

 環(huán)境溫度：15℃-30℃

 環(huán)境相對濕度：<70%

X射線測厚儀測量精度的影響因素有哪些

第四,在生產(chǎn)過程中,補償值也會對X射線測厚儀的測量精度造成影響。我們利用測厚儀測量是,會事先給測厚儀輸入一個補償值,讓測量值與實際值相等。X射線的激發(fā)如果要得到某元素的特征X射線，需要對元素原子內層電子進行激發(fā)，使得內層電子獲得一定能量，能夠脫離原子核的束縛，從而在內層軌道形成電子空穴，當較高能級電子填補這一空穴時，才會發(fā)射一定能量的特征X射線，這個過程就是X射線的激發(fā)。在這個過程中,操作者首先對板材進行測量,但是操作者使用量尺的方式不同,就會造成補償值的大小不等,會形成人為的誤差。只有在進行測量時,操作者認真操作,減少補償值得測算誤差,使補償值接近真實值,提高X射線測厚儀的測量精度。