與普通的陽(yáng)極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質(zhì)結(jié)合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境污染小, 目前對(duì)其生長(zhǎng)規(guī)律、生長(zhǎng)機(jī)理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。微弧氧化技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)中應(yīng)用匯越來(lái)越廣泛。一平方厘米電弧可以分解出來(lái)10億個(gè)以上的小弧斑，再把弧的開(kāi)斷時(shí)間控制在百萬(wàn)分之一秒內(nèi)，這個(gè)小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶?chē)娚洮F(xiàn)象。

微弧氧化的應(yīng)用

       微弧氧化是通過(guò)用專(zhuān)用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，它是一種直接在有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù)，與傳統(tǒng)的陽(yáng)極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。日照微弧氧化電源、微弧氧化、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化技術(shù)。

微弧氧化會(huì)污染環(huán)境嗎

      微弧氧化在輕金屬表面氧化形成一層膜，具有硬度高、耐腐蝕、耐磨損、耐熱沖擊等優(yōu)點(diǎn)，微弧氧化適用于輕金屬表面的微弧氧化處理。采用快速凝固工藝和表面改性等4個(gè)方面進(jìn)行腐蝕防護(hù)。鎂合金基體表面變形能力提高，基體磨損量增加，質(zhì)量磨損速率則隨載荷增加的趨勢(shì)變得緩慢。微弧-電泳工藝集合了微弧氧化和電泳涂裝兩種工藝的優(yōu)點(diǎn)，其特點(diǎn)如下:（1）利用微弧氧化代替電泳前處理，流程短，廢水排放大大減少。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝、微弧氧化技術(shù)原理