為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

PVD涂層性能特點(diǎn)：1.優(yōu)異的附著力-可彎曲90度以上而不會(huì)po裂或剝落（PVD涂層具有很高的附著力和耐用性）。其他技術(shù)，包括電鍍和噴涂，無法比擬。2.可用于室內(nèi)裝飾或室外。3.抗yang化，防腐。PVD可以在不銹鋼，銅，鋅鋁合金和其他金屬上鍍金，黃銅，玫瑰金，銀白色，黑色，煙灰色，銅，棕色，紫色，藍(lán)色，酒紅色，青銅和其他顏色，可以根據(jù)具體要求提供所需的顏色和質(zhì)量。PVD技術(shù)廣泛用于門窗五金，廚房和浴室五金，燈具，水產(chǎn)品，珠寶，手工藝品和其他裝飾產(chǎn)品的加工和制造。手機(jī)鍍膜看似簡(jiǎn)單，其實(shí)制作過程也很復(fù)雜，但各個(gè)環(huán)節(jié)都有更嚴(yán)格地要求，尤其注意模切工藝的控制。只有you質(zhì)的模切機(jī)器才能生產(chǎn)出優(yōu)zhi的產(chǎn)品，也會(huì)在一定程度上減少?gòu)U料，節(jié)省成本。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

一、鍍膜室極限壓力的測(cè)定1、試驗(yàn)條件：（1）鍍膜室內(nèi)沒有安放基材（空載狀態(tài)）；（2）用來測(cè)量的真空計(jì)應(yīng)和設(shè)備本身是配套的，且為有效期之內(nèi)；（3）在抽氣過程中，對(duì)鍍膜室用設(shè)備配套的加熱轟擊裝置進(jìn)行除氣；（4）真空測(cè)量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室壁上或zui靠近鍍膜室的管道上；（5）對(duì)具有中擱板、上卷繞室和鍍膜室的卷繞鍍膜設(shè)備，應(yīng)在兩室同時(shí)抽氣時(shí)對(duì)鍍膜室的壓力進(jìn)行測(cè)試。2、測(cè)試方法：連續(xù)對(duì)鍍膜室抽氣24h這一時(shí)間段之間，測(cè)定出過程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒有超過5％的波動(dòng)，則取zui高測(cè)量表讀數(shù)值作為極限壓力值。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

離子鍍?cè)谡婵諚l件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能噴涂的塑膠材料都能實(shí)現(xiàn)真空鍍，如ABS,P,PMMA，PET,PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過鍍不同的金屬體現(xiàn)不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，鋁，鎳等來實(shí)現(xiàn)金色，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，真空鍍可以利用夾具來遮擋不需要電鍍的區(qū)域。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制