ICP光譜儀

目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型，其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平，它們以光電倍增管為檢測器，技術(shù)上非常成熟，但也較落后，其中多道型已幾乎退出歷史舞臺(tái)，單道掃描型以其合適的價(jià)格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當(dāng)今ICP的新技術(shù)水準(zhǔn)，它以CID或CCD(SCD)半導(dǎo)體器件為檢測器；中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng)，能同時(shí)獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展，目前已成為ICP光譜儀的主流。

Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)”成果。采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級(jí)CCD檢測器實(shí)現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運(yùn)行成本低。

鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)科的樣品分析。可以快速、準(zhǔn)確地檢測從微量到常量約70種元素。

Plasma 2000 技術(shù)特點(diǎn)

1.  優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)

2.  固態(tài)有效射頻發(fā)生器，體積更加小巧

3.  流程自動(dòng)化，狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)

4.  科研級(jí)檢測器，極高的紫外量子化效率

5.  強(qiáng)大分析譜線

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口多方法

8.  編輯功能強(qiáng)大

9.  智能譜圖標(biāo)定

10. 智能干擾矯正

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Plasma 2000型ICP-OES測定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅

鋼研納克

隨著城市污水處理量的增加，處理過程中產(chǎn)生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機(jī)物，還含有很多難以降解的金屬元素，如果處理不當(dāng)會(huì)造成更為嚴(yán)重的二次污染。因此對(duì)污泥中金屬元素含量的監(jiān)測尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法，使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測量方法，加標(biāo)回收率在93.4% - 106.6%之間，方法可靠，適用于污泥中金屬元素的測定。

實(shí)驗(yàn)過程

1

儀器特點(diǎn)

觀測方式：徑向觀測

分光系統(tǒng)：中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，全譜瞬態(tài)直讀

檢測器：大面積背照式CCD芯片，高紫外檢出效率，寬動(dòng)態(tài)范圍

光源：固態(tài)射頻發(fā)生器，小體積

2

儀器參數(shù)

表1 Plasma 2000工作條件

3

實(shí)驗(yàn)方法

稱取一定量污泥樣品，加入一定比例的混酸，使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出，定容至100mL容量瓶待測。

4

分析譜線

表2 Plasma 2000譜線選擇（nm）

5

標(biāo)準(zhǔn)曲線

Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液（國家鋼鐵材料測試中心，1000 μg/mL）配制曲線濃度如表3 ，線性相關(guān)系數(shù)大于0.999。

表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度（μg/mL）

6

測定結(jié)果

在實(shí)際樣品中加入被測元素，其加標(biāo)回收率93.4%-106.6%為之間，滿足定量要求。

表4 實(shí)際樣品分析結(jié)果（%）

結(jié)論

本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測定污水處理廠中污泥中重金屬元素，加標(biāo)回收率介于93.4%-106.6%之間，適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測。