什么是光學(xué)鍍膜：

光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

光學(xué)鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進(jìn)行的涂料，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類(lèi)型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發(fā)涂層通常是加熱目標(biāo)，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā)，并通過(guò)成膜方法（散射島結(jié)構(gòu)-梯形結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）沉積在基材的表面上，薄膜。

對(duì)于濺射狀涂層，很容易理解目標(biāo)材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。

2、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因?yàn)榇藘煞N方式我應(yīng)用的比較多。

電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多，廣泛的蒸發(fā)方式，也是應(yīng)用時(shí)間長(zhǎng)的蒸發(fā)方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個(gè)電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過(guò)鎢舟，鎢舟通電發(fā)熱，這些低電壓，大電流使高熔點(diǎn)的鎢舟產(chǎn)生熱量，再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料，當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點(diǎn)的時(shí)候，材料就升華或者蒸發(fā)了，此方法由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉，故被很多設(shè)備應(yīng)用，但是其蒸發(fā)出來(lái)的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無(wú)法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時(shí)候，材料的熔點(diǎn)必須小于鎢舟的熔點(diǎn)，否則就沒(méi)有辦法進(jìn)行。

減少真空鍍膜機(jī)中灰塵的方法

如今真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)在生活中隨處可見(jiàn)，但真空鍍膜機(jī)在日常使用中，經(jīng)常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機(jī)中的灰塵呢？由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此未來(lái)避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用過(guò)程中注意以下幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機(jī)一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時(shí)需要戴手套、鞋套等，要有規(guī)范的服裝，以保證平時(shí)工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求；

（5）設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題；

（6）設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求；