原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過程中，樣品表面上沒有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。

       由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過程中保持清晰，不會與骨骼、組織或體液發(fā)生反應(yīng)，故而，越來越多都用于，例如鋒利的手術(shù)器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC，TIN)已廣泛應(yīng)用在不銹鋼零部件上，作用是可減少摩損和延長零部件壽命，但因為涂層本身有缺陷和，所以使用在一些  耐腐蝕要求高的環(huán)境下，效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案：PVD涂層提供耐磨性，納米透明膜提供耐腐蝕性。

       PVD工藝一般只是直線沉積，對形狀復(fù)雜，縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問題，無論形狀多復(fù)雜，每個位置的膜厚都是一致的，沒有大偏差。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對小型超小型磁材進(jìn)行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護(hù)涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進(jìn)行刻蝕制圖，進(jìn)行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護(hù)材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過的集成電路芯片，其25um細(xì)直徑連接線，連接強(qiáng)度可提高5-10倍。

        Parylene涂層也用于硅橡膠鍵盤。Parylene涂層也用于硅橡膠鍵盤，防止印刷圖案，抵抗表面磨損，解決粘性問題，同時保護(hù)鍵盤免受污垢，灰塵和油污。所施加的膜具有高介電強(qiáng)度，并且不損害下面的橡膠組分的電絕緣性能。Parylene提供無細(xì)孔，防止潮濕，腐蝕性體液，常見氣體，抑菌和溫度。增加涂層厚度可進(jìn)一步提高化學(xué)耐受性和耐溶劑性，而不會增加重量或?qū)嵸|(zhì)上影響基板的彈性。此外，聚對二薄膜可以除去硅橡膠的粘性，使硅橡膠表面更潤滑，改變硅橡膠按鍵的手感。由于厚度薄，聚對二薄膜是透明或接近透明的，對按鍵的外觀和尺寸沒有影響。