納米鍍膜技術(shù)是將納米級(jí)的二氧化硅均勻的涂抹在手機(jī)屏面，讓二氧化硅慢慢的滲透并填充屏面凹陷坑洼處，在自然溫度下靜置5-10分鐘等待固化，或者使用專業(yè)的納米鍍膜機(jī)快速固化，形成有9H硬度的保護(hù)涂層。

       同時(shí)，早期手機(jī)貼膜的材質(zhì)都是塑料成分，透光率不好，屏面整體可視性差，太陽(yáng)光下的反光現(xiàn)象傷害視力，越看不清越努力的看更是損傷眼睛的健康；而納米鍍膜的微薄涂層透光率高，呈現(xiàn)效果清晰,還能有效還原屏幕原有的畫(huà)質(zhì)色彩，極大提升手機(jī)的品質(zhì)使用感。

       從材質(zhì)的健康角度來(lái)說(shuō)，貼膜的塑料成分中含有苯，苯的有毒性大家共知，長(zhǎng)期接觸人體飽受；而納米的屬性是無(wú)毒、無(wú)味的食品等級(jí)，是兒童都可以觸碰的無(wú)毒產(chǎn)品，衡量利弊當(dāng)然還是納米鍍膜好。

原子層沉積是通過(guò)將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)器并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種方法（技術(shù)）。當(dāng)前驅(qū)體達(dá)到沉積基體表面，它們會(huì)在其表面化學(xué)吸附并發(fā)生表面反應(yīng)。在前驅(qū)體脈沖之間需要用惰性氣體對(duì)原子層沉積反應(yīng)器進(jìn)行清洗。由此可知沉積反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)能否在被沉積材料表面化學(xué)吸附是實(shí)現(xiàn)原子層沉積的關(guān)鍵。氣相物質(zhì)在基體材料的表面吸附特征可以看出，任何氣相物質(zhì)在材料表面都可以進(jìn)行物理吸附，但是要實(shí)現(xiàn)在材料表面的化學(xué)吸附必須具有一定的活化能，因此能否實(shí)現(xiàn)原子層沉積，選擇合適的反應(yīng)前驅(qū)體物質(zhì)是很重要的。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級(jí)薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對(duì)較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過(guò)程中，樣品表面上沒(méi)有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過(guò)程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過(guò)使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。

1、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于磁性材料領(lǐng)域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對(duì)小型超小型磁材進(jìn)行無(wú)薄弱點(diǎn)全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國(guó)際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護(hù)涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于印制電路組件和元器件領(lǐng)域，鍍膜材料通過(guò)派瑞林真空鍍膜設(shè)備使得活性的對(duì)二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬(wàn)的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設(shè)備有效應(yīng)用于微電子集成電路領(lǐng)域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進(jìn)行刻蝕制圖，進(jìn)行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護(hù)材料，而且也能作為結(jié)構(gòu)層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過(guò)的集成電路芯片，其25um細(xì)直徑連接線，連接強(qiáng)度可提高5-10倍。