因此，蝕刻部位的金屬不斷地溶解并在金屬的表面留下當量電子，其反應式

如下：

式中 M-蝕刻金屬的原子；

ne—溶解金屬留下的當量電子數(shù)；

M ne—失去ne個電子的金屬離子，未水合化；

M ne.xH20—進入電解液的金屬水合離子。

陰極上的反應是電解溶液中的還原性物質(zhì)如氫離子、氧分子或金屬正離子等在陰極上得到電子，還原成氫氣析出或生成氫氧根負離子或金屬沉積物附著在陰極上，因此陰極反應是各種還原反應的結(jié)果。其電極反應如下：2H 2e→H2↑2H20 02 4e→40H-M ne ne→M↓

從上可以看到，電解蝕刻主要是利用電流加快蝕刻部位金屬的溶解，而不是化學蝕刻那樣要加入各種添加劑，特別是催速劑。在某種條件下還可能一面將蝕刻的金屬溶解，另一方面又能將溶解的金屬在陰極上沉積而回收。從示意圖6—7上可以看到電解蝕刻需要有專用的電解設(shè)備、電源系統(tǒng)及配電設(shè)施，在實際操作時，還要有掛具和裝卸作業(yè)等。

抗蝕刻層： 

抗蝕刻層大概為油墨或濕膜二種，現(xiàn)階段有店家發(fā)布了噴墨打印機復印抗蝕刻油墨，但精度是不是能做到產(chǎn)品規(guī)定，必須靠慮。 油墨的包裝印刷方法比較多，能夠依據(jù)不一樣的產(chǎn)品開展選 擇，大致而言有下列幾類： 傳統(tǒng)式手動式或全自動包裝印刷：只有單雙面包裝印刷。 絲網(wǎng)印刷機：優(yōu)勢較為顯著，施膠速度更快，可單雙面施膠或兩面途布。 曝光機： 曝光機現(xiàn)階段大概有幾種，一是傳統(tǒng)式風冷式小輸出功率的曝光機，像這類曝光機精度差，低，只適合做簡易的標識牌產(chǎn)品。 若想做的產(chǎn)品，提議功率大的水冷式曝光機，或LED平行面曝光機。此2款型號都有優(yōu)點和缺點，水冷式曝光機輸出功率大，耗能高。而LED曝光機是屬冷光燈曝光機，耗能低，精度也罷，但是就是說價錢較為高。但這2款型號，燈源也平穩(wěn)，產(chǎn)品合格率也高。但實際采用哪家能夠依據(jù)分別要求開展挑選。 

激光蝕刻機

設(shè)備適用于PET薄膜和Glass玻璃基底上的導電材料進行高速激光刻蝕、剝離、蝕刻、刻線、劃片、材料去除、構(gòu)造。

適用材料

玻璃/薄膜表面氧化銦錫（ITO）、FTO、銀漿（Ag）、碳納米管（CNT）、石墨烯、納米銀、鉬鋁鉬、銅、高分子導電膜、鋁薄膜、PERC、鈣鈦礦電池、TCO、碳粉、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、金等涂層材料的超細線寬激光蝕刻。可直接對白玻璃激光刻蝕、劃線，線寬小于10微米。