四種常見的真空鍍膜材料

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3，氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

2.氟化物：氟化釹NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化鎂MgF2，LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

3.其它化合物：硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，CdS等真空鍍膜材料。

4.金屬鍍膜材料：高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純金Au，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦合金CuInGa，銅銦硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。這些產(chǎn)品的表面必須采用Parylene來涂上一層保護(hù)層，以增強(qiáng)產(chǎn)品表面的絕緣性、堅(jiān)固性、光滑性。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。真空鍍中對(duì)底涂層的要求：①對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對(duì)作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來產(chǎn)品外觀損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。而高真空離子鍍它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，也就是我們俗稱的真空鍍膜。

電鍍按技術(shù)分類可分為蒸鍍、濺鍍、槍色等，水電鍍因技術(shù)較簡(jiǎn)略，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，然后被廣泛使用。通過電子束不停的掃描，鋼帶表面溫度控制在200~550℃，這種預(yù)熱是鋼帶鍍膜和提高鍍膜附著力所必須的。但水電鍍有個(gè)缺陷，只能鍍ABS料和ABS PC料(此料鍍的效果也不是很理想).而ABS料耐溫只需80℃,這使得它的使用規(guī)劃被約束了，而真空電鍍可達(dá)200℃分配，這對(duì)運(yùn)用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了.像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運(yùn)用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫，通常要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在畢竟噴一層UV油，這么使得商品外表既有光澤、有能耐高溫、同時(shí)又加強(qiáng)其附著力。

可承受常規(guī)消毒Parylene涂層被廣泛應(yīng)用于各類產(chǎn)品，如心臟起搏器、房間隔缺損封堵器.血管支架、人工耳、人工心臟、超聲波探頭、線路板，骨釘、臨時(shí)手術(shù)器械、替換型器件、引流管、腦部探針及針頭等產(chǎn)品。

在國(guó)外除了心臟起搏 器用派瑞林進(jìn)行可靠絕緣防護(hù)外，腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術(shù)刀等微型電子，也都有使用派瑞林。