平面拋光機行業(yè)此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統(tǒng)的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。同時，拋光耗材的興起，也極大的支持了拋光設備的發(fā)展，拋光工藝的延續(xù)得到了保障。如何能突破瓶頸發(fā)展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導體的相關政策出來后，隨著硅片生產(chǎn)廠商的積極響應，也給平面拋光機生產(chǎn)廠家?guī)砹诵碌钠鯔C。

目前以平面拋光機廠家已經(jīng)開始研發(fā)硅片磨拋技術，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。當工件尺寸大于拋光盤半徑，或偏心距過大時，工件會露出拋光盤，既有一部分表面不能與拋光盤始終接觸。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰(zhàn)，相對國外而言，我們的技術是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學習，然后在此基礎上進行改良和完善，以適用我們國內的生產(chǎn)環(huán)境。

拋光和研磨在磨料和研具材料的選擇上不同。高速拋光機所使用的設備以準球心的方法設計的（另外還有一些是假準球心式拋光機，又有用平擺式拋光機用氣壓增加壓力的方法充當高速拋光機），所謂準球心，是在拋光過程中負荷的壓力始終指向被加工球面的球心位置。拋光通常使用的是1μm 以下的微細磨粒，拋光盤用瀝青、石蠟、合成樹脂、人造革和錫等軟質金屬或非金屬材料制成。在拋光過程中,除機械切削作用外，加工氛圍的化學反應起了重要作用。而研磨使用比較硬的金屬盤作研具,材料的破壞以微小破碎為主。

拋光屬于用微細磨粒進行的切削加工,因此拋光過程會產(chǎn)生微小的劃痕，生成細微的切屑;磨粒與拋光盤對工件有摩擦作用，使得接觸點溫度上升，工件表面產(chǎn)生塑性流動,形成凹凸不平的光滑表面;拋光劑中的脂肪酸在高溫下會產(chǎn)生化學反應,從工件金屬表面溶析出金屬皂，它是一種易于切除的化合物，起著化學洗滌作用,使工件表面平坦光滑;加工環(huán)境中由于塵埃、異物的混人也會產(chǎn)生機械作用。目前以平面拋光機廠家已經(jīng)開始研發(fā)硅片磨拋技術，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。由于這些作用的重疊，以及拋光液、磨粒及拋光盤的力學作用，使得工件表面平滑化。采用工件、磨粒、拋光盤和加工液的不同組合，可實現(xiàn)不同的拋光效果。工件與拋光液、磨料及拋光盤之間的化學反應有助于拋光加工。

拋光膜用松香柏油或毛氈等材料制作， 由于拋光膜比較柔軟， 加工后的表面粗糙度小、 表面缺陷小，可以加工較等級的零件。隨后，人們發(fā)現(xiàn)將研磨材料做成圓盤形平板或將研磨材料的粒子裝在圓盤或帶子上使其運轉，并將被整平拋光表面放在上面可以得到不同程度的平整和光亮度，并且可以節(jié)省人力。在古典拋光過程中，拋光膜的表面的形狀容易變化， 需要隨時進行修整， 這就要求作業(yè)人員有較高操作技能， 必須經(jīng)過長期的培訓才能掌握， 而且生產(chǎn)效率低。在少量和小批量加工中， 它有很大的優(yōu)點，對于拋光機的精度要求低， 拋光模的代用率較高，設備、工裝夾具的投入費用小。目前中等精度以下大批量生產(chǎn)的光學零件普遍都采用高速拋光的方法進行加工， 高速拋光是以高主軸轉速、 大壓力來提高拋光的效率。高速拋光機所使用的設備以準球心的方法設計的（另外還有一些是假準球心式拋光機， 又有用平擺式拋光機用氣壓增加壓力的方法充當高速拋光機） ，所謂準球心，是在拋光過程中負荷的壓力始終指向被加工球面的球心位置。

平壓式拉絲是很常見的一種拉絲方式，工件固定在模具上，研磨砂帶高速運轉，砂帶的背面有一個氣動控制的可以上下移動的壓塊，下壓后砂帶貼服在被加工表面進行拉絲。通常使用的設備是平壓式砂帶機。平壓式拉絲適應于小面積平面的拉絲表面，例如目前廣泛應用于數(shù)碼相機外殼的拉絲，手機外殼的拉絲等等。這種拉絲表面出來的線紋通常是連續(xù)絲紋的直絲。由于使用砂帶，具有廣泛的粒度范圍選擇，所以既可以選用粗粒度砂帶加工出粗獷的、有明顯的手感線紋，也可以選用細粒度砂帶而加工出較為細膩的絲紋。3M公司不僅可以提供普通砂帶，還可以提供更加適合拉絲的金字塔系列砂帶和不織布尼龍砂帶。砂帶對這個表面整體研磨拉絲，會產(chǎn)生大量的熱量，并且在工件的拉絲一面產(chǎn)生應力集中的問題，尤其對薄壁零件會產(chǎn)生起翹變形的問題。所以這種方式適應于小面積的拉絲加工。由于是下壓式的操作，所以通常是應用于平面，表面不能有突臺，例如突起的文字標識等。不過通過對壓塊等模具的巧妙設計，也可以對略有彎曲的工件進行拉絲。具體方法要視彎曲的程度來具體討論。如果有這方面的問題，可以與筆者取得聯(lián)系。例如，安裝現(xiàn)場石材破損的修補，平整度的處理，劃傷和磨損的處理，石材的翻新處理和光澤保持。