曝光后要檢測曝光后的圖形質(zhì)量，若有遺漏需要進(jìn)行人工補(bǔ)油補(bǔ)點(diǎn)。補(bǔ)油后需要進(jìn)行第二次烘烤。

之后就進(jìn)行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無間隙貼膜。

顯影要充分。顯影是與下道工序直接相連的重要工序，其質(zhì)量的好與壞是整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移成功與否的重要標(biāo)志。

蝕刻加工中曝光顯影需要注意哪些問題：蝕刻工藝流程-曝光：首先是預(yù)處理，蝕刻材料要處理干凈，絲印油墨時(shí)要保證油墨厚度適中，一般在0.12-0.14mm，當(dāng)然看每個(gè)工廠的實(shí)際情況與工藝。

曝光顯影在蝕刻加工中的作用：曝光也叫感光，是將菲林放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面，主要的目的是通過曝光讓菲林上的圖案在材料上對應(yīng)成型，感光(曝光)過程中要特別注意夾具一定要放好，菲林不能歪斜，否則產(chǎn)品圖案就會(huì)出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象，從而產(chǎn)生不良品，而菲林也要定期檢查，不能出現(xiàn)折疊現(xiàn)象，否則也會(huì)出現(xiàn)不良品。

IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國際流行的工藝，其實(shí)這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問題真正應(yīng)用到產(chǎn)品設(shè)計(jì)領(lǐng)域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個(gè)手機(jī)殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質(zhì)檢等多個(gè)流程，把畫面植入殼體中間層，永遠(yuǎn)不會(huì)褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強(qiáng)，高清，臟的時(shí)候一擦就干凈了，相對來說優(yōu)點(diǎn)還是很多的。


但缺點(diǎn)是由于是塑料，即使高硬度也無法與金屬物質(zhì)抗衡，所以會(huì)有劃痕，用iphone4s 的人會(huì)知道，那個(gè)手機(jī)殼背面殼體就是IMD工藝，可以拿起來看看是否有劃痕。這就是i5之后換成金屬材質(zhì)的原因，喬布斯還為用戶辯解說這是歲月的痕跡，其實(shí)痕跡就是痕跡，每個(gè)物體都有它的優(yōu)缺點(diǎn)。如果用這種材質(zhì)且不說成像如何，成本就高的嚇人。另外而且由于是印刷，必須需要一定的量廠家才會(huì)去做。