真空鍍膜機真空的清洗方法,你知道嗎?

真空鍍膜機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前，先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質的過程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。

一．真空加熱清洗

將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質蒸發(fā)來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣

二．紫外線輻照清洗

利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加．

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。

AF光學鍍膜機

該設備是至成鍍膜機廠家真空針對數(shù)碼光電行業(yè)視窗鏡片及殼料加工推出的新型真空鍍膜設備，目標對準行業(yè)當前對手機屏幕視窗蓋板、鏡頭視窗鏡片、殼體及五金件的真空涂層性能更高要求的解決方案：

性能和產率：提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能，并通過提高設備產率和穩(wěn)定性、降低材料消耗來大幅降低成本。

適用性：除手機、平板電腦、車載顯示器等觸控產品外，也適用于在其他數(shù)碼產品、電器、衛(wèi)浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層，提高光滑度、易清潔性。

淺談水電鍍和真空電鍍區(qū)別

淺談水電鍍和真空電鍍區(qū)別： 真空電鍍機適用范圍較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的產品。同時因其工藝流程復雜、環(huán)境、設備要求高，單價比水電鍍低?，F(xiàn)對其工藝流程簡要介紹：產品表面清潔、去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。 水電鍍一般適用于ABS料、ABS PC料的產品。主要工藝是將需電鍍的產品放入化學電鍍液中進行電鍍。 根據(jù)客戶的不同需要，可鍍成不同的顏色，與高光銀色、亞銀色、灰銀色。因為電鍍后的產品其導電性顯著增強，對于某些需絕緣的部件怎么辦?辦法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，從而達到絕緣效果!當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適宜作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特殊的膠紙貼住，保護起來，同樣達到絕緣的效果。