電子束蒸發(fā)鍍膜

利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā)，在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2，可達到3000℃以上，可蒸發(fā)高熔點的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。

電子束加熱的蒸鍍源有直槍型電子槍和e型電子槍兩種(也有環(huán)行)，電子束自源發(fā)出，用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn)，對膜料進行轟擊和加熱。

離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著力和質(zhì)量，是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。既然納米噴鍍能在多種材料的表面上實現(xiàn)鍍制，那它的表面性能又如何呢。

根據(jù)離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

蒸發(fā)源接陽極，工件接陰極，當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氣，在放電電場作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）等產(chǎn)品中。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進入輝光放電區(qū)并被電離。