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三步鏡面拋光是拋光電動(dòng)工具按順序配合使用復(fù)合百葉盤(pán)、合成磨光盤(pán)、羊毛條拋光盤(pán)等三種拋光材料進(jìn)行鏡面拋光，磨光工序?yàn)閺?fù)合百葉盤(pán)、合成磨光盤(pán)，表面拋光工序?yàn)檠蛎珬l拋光盤(pán)。

復(fù)合百葉盤(pán)：復(fù)合百葉盤(pán)的結(jié)構(gòu)復(fù)合了表面磨光材料和涂附磨料，除去粗糙的表面和不規(guī)則外形，可以實(shí)現(xiàn)粗磨和初步細(xì)磨。

合成磨光盤(pán)：高濃縮磨料在堅(jiān)固的無(wú)紡布基料上分布，除去不銹鋼表面砑光或毛刺，實(shí)現(xiàn)細(xì)磨，為拋光做準(zhǔn)備。

羊毛條拋光盤(pán)：羊毛條盤(pán)具有良好的柔性并容易加速空氣流動(dòng)冷卻，適合配合拋光蠟或膏，實(shí)現(xiàn)光亮似鏡的金屬表面加工過(guò)程的后一道程序。

不繡鋼內(nèi)外壁拋光設(shè)備主要特點(diǎn)及性能：

1、外形2-10米*1米*0.8米功率12-60KW。也可以根據(jù)用戶(hù)實(shí)際情況定制。

2、日產(chǎn)量50-60根（以8小時(shí)計(jì)算）。更大生產(chǎn)量可以定制。

3、加工場(chǎng)地要求：水、電、氣齊全；空間長(zhǎng)20米*寬6米*高3.5米以上。

4、加工管徑范圍：12.7-101.6mm,長(zhǎng)度范圍1000mm-10000mm.

5、研磨表面質(zhì)量0.15um-0.25um（毛胚表面光潔度為0.4um）.

6、適用行業(yè)：衛(wèi)生食品級(jí)、制藥化工級(jí)、半導(dǎo)體級(jí)（需要無(wú)塵室）

7、主機(jī)采用微電腦控制，含有時(shí)間、電流、電壓、加載、卸載設(shè)定及數(shù)字顯示。含有過(guò)熱及短路保護(hù)裝置。

8、設(shè)備集合了清洗、吹干及電解工藝

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不銹鋼電解拋光原理被大家公認(rèn)的主要為黏膜理論。噴砂處理后,工件表面污物被清除掉,工件表面被微量破壞,表面積大幅增加,從而增加了工件與涂/鍍層的結(jié)合強(qiáng)度。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過(guò)程。

電解拋光加工有哪些條件？

（1）工件陽(yáng)極和工具陰極（大多為成型工具陰極）間保持很小的間隙（稱(chēng)作加工間隙），一般在0.1-1mm范圍內(nèi)。

（2）電解液從加工間隙中不斷高速（6-30m/s）流過(guò)，以保證帶走陽(yáng)極溶解產(chǎn)物和電解電流通過(guò)電解液時(shí)所產(chǎn)生的熱量，并去極化。

（3）工件陽(yáng)極和工具陰極分別和直流電源（一般為10-24V）連接，在上述兩項(xiàng)工藝條件下，則通過(guò)兩極加工間隙的電流密度很高，高達(dá)10-100A/cm2數(shù)量級(jí)。

 (4) 工件上與工具陰極凸起部位的對(duì)應(yīng)處比其他部位溶解更快。