鍍鈦涂層的工業(yè)化生產(chǎn)開始于上世紀(jì)末和本世紀(jì)初，和普通的應(yīng)用于刀具/模具上的硬質(zhì)涂層（如TiN，TiAlN，CrN，TiCN等）相比是一種嶄新的涂層技術(shù)。目前在世界范圍內(nèi)，能將這一技術(shù)很好應(yīng)用的廠家也。鍍鈦是新一代硬質(zhì)涂層技術(shù)和應(yīng)用的典型代表以及發(fā)展方向。鋁型材鍍鈦金工藝，屬于鍍膜技術(shù)，它是在常規(guī)鍍鈦工藝基礎(chǔ)上增加預(yù)鍍和電鍍工藝步驟，預(yù)鍍工藝是將活化后的鍍件置于和的水溶液中進行化學(xué)處理；電鍍工藝的鍍液成分包括鎳、、硼酸、十二烷基鈉、糖精、光亮劑，本工藝具有簡單、實用、效果佳等優(yōu)點，本工藝制得的鈦金鋁型材其膜層硬度HV≈1500、同等條件下比鍍22K金耐磨150倍，可加工成各種形態(tài)的金色、彩色，黑色等光亮的多種系列鋁型材產(chǎn)品。

干涉條紋間距Δ0，條紋移動Δ，臺階高為t=(Δ/Δ0)*0.5λ，測出Δ0和Δ，即可，其中λ為單色光波長，如用白光，λ取530nm。稱重法如果薄膜面積A，密度ρ和質(zhì)量m可以被精測定的話，膜厚t就可以計算出來：d=m/Aρ。3石英晶體振蕩器法廣泛應(yīng)用于薄膜淀積過程中厚度的實時測量，主要應(yīng)用于淀積速度，厚度的監(jiān)測，還可以反過來（與電子技術(shù)結(jié)合）控制物質(zhì)蒸發(fā)或濺射的速率，從而實現(xiàn)對于淀積過程的自動控制。

離子鍍膜膜層的成分來源于鍍料，或者說來源于蒸發(fā)源和濺射靶的材料以及反應(yīng)氣體。這些沉積物的物種及其比例，在沉積過程要穩(wěn)定供給。離子鍍膜膜層的組織結(jié)構(gòu)除了決定于沉積物料的成分外，還取決于沉積粒子的能量、粒子入射角度和基體溫度等，在沉積過程中要求保持一致。離子鍍膜膜層的厚度取決沉積物的總量，當(dāng)然以膜致密度相同為前提。