X射線測(cè)厚儀結(jié)構(gòu)

一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

（一）、外部結(jié)構(gòu)原理圖

X熒光做鍍層分析時(shí)，根據(jù)射線是至上而下照射樣品，還是至下而上照射樣品的方式，將X熒光分析儀的外部整體結(jié)構(gòu)分為：上照射和下照射兩種結(jié)構(gòu)。

（二）、各種外部結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)

1、上照射方式

   用于照射(激發(fā))的X射線是采用由上往下照射方式的設(shè)備稱為上照射儀器。此類設(shè)備的Z軸為可移動(dòng)方式，用于確定射線照射光斑的焦點(diǎn)，確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。

①、Z軸的移動(dòng)方式

   根據(jù)Z軸的移動(dòng)方式，分為自動(dòng)和手動(dòng)兩類；

自動(dòng)型的設(shè)備完全由程序與自動(dòng)控制裝置實(shí)現(xiàn)，其光斑對(duì)焦的重現(xiàn)性與準(zhǔn)確度都很高，而且使用非常簡便（一般是與圖像采集系統(tǒng)與控制系統(tǒng)相結(jié)合的方式），一般只需要用鼠標(biāo)在圖像上點(diǎn)擊一下即可定位。此類設(shè)備對(duì)于測(cè)試形狀各異的樣品非常方便，也是目前主流的分析設(shè)備類型。能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法，具有無需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì)，特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過程控制和檢測(cè)使用。

   手動(dòng)型設(shè)備，一般需要用人觀察圖像的方式，根據(jù)參考斑點(diǎn)的位置，手動(dòng)上下調(diào)節(jié)Z軸方向，以達(dá)到準(zhǔn)確對(duì)焦的目的。因此，往往在測(cè)試對(duì)象幾何結(jié)構(gòu)基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。

②、X、Y軸水平移動(dòng)方式

水平移動(dòng)方式一般分為：無X、Y軸移動(dòng)裝置；手動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；電動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置；全程控自動(dòng)X、Y軸移動(dòng)裝置。

這幾類的設(shè)備都是根據(jù)客戶實(shí)際需要而設(shè)計(jì)的，例如：使用無X、Y軸移動(dòng)裝置的也很多，結(jié)構(gòu)簡單，樣品水平移動(dòng)完全靠手動(dòng)移動(dòng)，這種設(shè)備適合于樣品面積較大，定位比較容易的測(cè)試對(duì)象。  

一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1～104的原子層或分子層。在此方向上，薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的，其他的兩維方向具有宏觀大小。所以，表示薄膜的形狀，一定要用宏觀方法，即采用長、寬、厚的方法。因此，膜厚既是一個(gè)宏觀概念，又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的，而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚：dT是接近于直觀形式的膜厚，通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子（分子）有關(guān)，并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響；

質(zhì)量膜厚：dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少，通常以μg/cm2為單位，它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響（如缺陷、、變形等）；

物性膜厚：dP在實(shí)際使用上較有用，而且比較容易測(cè)量，它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無直接關(guān)系，主要取決于薄膜的性質(zhì)（如電阻率、透射率等）。

江蘇一六儀器   X熒光光譜測(cè)厚儀 特點(diǎn)

快速：1分鐘就可以測(cè)定樣品鍍層的厚度，并達(dá)到測(cè)量精度要求。

方便：X熒光光譜儀部分機(jī)型采用進(jìn)口國際上先進(jìn)的電制冷半導(dǎo)體探測(cè)器，能量分辨率更優(yōu)于135eV，測(cè)試精度更高。并且不用液氮制冷，不用定期補(bǔ)充液氮，操作使用更加方便，并且運(yùn)行成本比同類的其他產(chǎn)品更低。

無損：測(cè)試前后，樣品無任何形式的變化。

直觀：實(shí)時(shí)譜圖，可直觀顯示元素含量。

測(cè)試范圍廣：X熒光光譜儀，是一種物理分析方法，其分析與樣品的化學(xué)結(jié)合狀態(tài)無關(guān)。對(duì)在化學(xué)性質(zhì)上屬同一族的元素也能進(jìn)行分析,抽真空可以測(cè)試從Na到U。

可靠性高：由于測(cè)試過程無人為干擾因素，儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以，其測(cè)量的可靠性更高。

滿足不同需求：測(cè)試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件，操作方便、功能強(qiáng)大，軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài)，設(shè)定儀器參數(shù)，并就有多種先進(jìn)的分析方法，工作曲線制作方法靈活多樣，方便滿足不同客戶不同樣品的測(cè)試需要。

性價(jià)比高：相比化學(xué)分析類儀器，X熒光光譜儀在總體使用成本上有優(yōu)勢(shì)的，可以讓更多的企業(yè)和廠家接受。

簡易：對(duì)人員技術(shù)要求較低，操作簡單方便,并且維護(hù)簡單方便。

江蘇一六儀器 XTU系列 XTU-BL X熒光光譜儀

儀器規(guī)格：

   外形尺寸 ：550 mm x 660mm x 470 mm （長x寬x高）

   樣品倉尺寸 ：500mm×660 mm ×215mm （長x寬x高）

   儀器重量 ：55kg

   供電電源 ：交流220±5V

   功率 ：330W

   環(huán)境溫度：15℃-30℃

   環(huán)境相對(duì)濕度：<70%

EDX是借助于分析試樣發(fā)出的元素特征X射線波長和強(qiáng)度實(shí)現(xiàn)的， 根據(jù)不同元素特征X射線波長的不同來測(cè)定試樣所含的元素。通過對(duì)比不同元素譜線的強(qiáng)度可以測(cè)定試樣中元素的含量。通常EDX結(jié)合電子顯微鏡使用，可以對(duì)樣品進(jìn)行微區(qū)成分分析。

常用的EDX探測(cè)器是硅滲鋰探測(cè)器。當(dāng)特征X射線光子進(jìn)入硅滲鋰探測(cè)器后便將硅原子電離，產(chǎn)生若干電子-空穴對(duì)，其數(shù)量與光子的能量成正比。利用偏壓收集這些電子空穴對(duì)，經(jīng)過一系列轉(zhuǎn)換器以后變成電壓脈沖供給多脈沖高度分析器，并計(jì)數(shù)能譜中每個(gè)能帶的脈沖數(shù)。一六熒光測(cè)厚儀十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì)集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體元素分析范圍:氯(CI)-鈾(U)厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素厚度檢出限:0。

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