快速簡(jiǎn)便的高重復(fù)性測(cè)量

在過(guò)去，由于費(fèi)力的測(cè)試程序和相應(yīng)的低樣品通量，界面流變學(xué)沒(méi)有用于研究和開(kāi)發(fā)的很大程度，盡管它的信息豐富的結(jié)果。現(xiàn)在，隨著對(duì)SDC-200S幾種簡(jiǎn)化，從準(zhǔn)備和測(cè)量一直到評(píng)估，這種情況將改變。將樣品置于市售的玻璃內(nèi)，該僅插入幾個(gè)簡(jiǎn)單的步驟，并完全自動(dòng)耦合到定量給料。使用SDC-200S可以容易地避免過(guò)去在界面流變學(xué)上經(jīng)常出現(xiàn)的氣泡。

整個(gè)測(cè)量過(guò)程，從分配通過(guò)定義的體積振蕩到輸出所得到的參數(shù)，由在軟件中容易創(chuàng)建的自動(dòng)化程序控制。再現(xiàn)性和結(jié)果是獨(dú)立于用戶(hù)的，通過(guò)去除許多手動(dòng)步驟和所有劑量和振蕩參數(shù)的規(guī)范來(lái)確保。

全自動(dòng)水滴角測(cè)試儀硬件及軟件明細(xì),水滴角測(cè)試原理及指標(biāo)-晟鼎

全自動(dòng)水滴角測(cè)試儀介紹:  接觸角定義：當(dāng)液體在固體表面達(dá)到平衡時(shí)，固、液、氣三相交界處，氣體和液體界面和固體和液體界面的夾角稱(chēng)為接觸角水滴角的定義：接觸角測(cè)量?jī)x，主要用于測(cè)量液體對(duì)固體的接觸角，即液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，該儀器能測(cè)量各種液體對(duì)各種材料的接觸角。該儀器對(duì)石油、印染、、噴涂、選礦等行業(yè)的科研生產(chǎn)有非常重要的作用。

水滴角的原理概述:當(dāng)液滴自由地處于不受力場(chǎng)影響的空間時(shí)，由于界面張力的存在而呈圓球狀。但是，當(dāng)液滴與固體平面接觸時(shí)，其終形狀取決于液滴內(nèi)部的內(nèi)聚力和液滴與固體間的粘附力的相對(duì)大小。當(dāng)一液滴放置在固體平面上時(shí)，液滴能自動(dòng)地在固體表面鋪展開(kāi)來(lái)，或以與固體表面成一定接觸角的液滴存在。水滴角系統(tǒng)組成:全自動(dòng)水滴角測(cè)試儀硬件組成：接觸角測(cè)量?jī)x主機(jī)一臺(tái)

與接觸角測(cè)量?jī)x相配的計(jì)算機(jī)一臺(tái)

與接觸角測(cè)量?jī)x相配的打印機(jī)一臺(tái)

?全自動(dòng)水滴角測(cè)試儀硬件特點(diǎn)：

1 標(biāo)準(zhǔn)CCD攝像機(jī) 先進(jìn)的攝像系統(tǒng)

2 視頻放大倍數(shù)：20～200倍

3 放大方式：連續(xù)變焦

4 視場(chǎng)范圍：可到12X8（mm）圖像分辨率： 768X576X24位

5 背光源 可調(diào)亮度冷光LED光源，圖像邊緣分辨更清晰。

6 采用屏蔽技術(shù) 實(shí)時(shí)和測(cè)量可在同一界面下相互轉(zhuǎn)換。即在實(shí)時(shí)的視窗下凍結(jié)圖像，并直接可以測(cè)量，無(wú)須轉(zhuǎn)換界 面，既方便又增加了實(shí)時(shí)性。

7 采用快照技術(shù) 先將圖像按時(shí)間順序儲(chǔ)存起來(lái)，再利用縮略圖進(jìn)行瀏覽，選出圖像進(jìn)行測(cè)量，采樣速度可達(dá)到25幅/秒。

8 液滴體積 通過(guò)微量進(jìn)樣器可以得到液滴的體積。

應(yīng)用實(shí)例

· 冶煉廠、冶金過(guò)程研究: 在熔煉期間，應(yīng)盡可能減少液態(tài)金屬或熔渣對(duì)爐壁的附著，使用DSDC1500測(cè)量接觸角可判斷潤(rùn)濕程度是否滿(mǎn)足。

· 玻璃生產(chǎn)優(yōu)化處理: 玻璃和耐火磚之間的非期望反應(yīng)導(dǎo)致材料疲勞，隨時(shí)間變化的接觸角提供了關(guān)于這種反應(yīng)發(fā)生程度的信息。

· 琺瑯鍍層工藝開(kāi)發(fā): 在加工過(guò)程中，琺瑯鍍層對(duì)載體材料的潤(rùn)濕必不可少，而小的接觸角是具有良好潤(rùn)濕性能構(gòu)想的先決條件。

· 陶瓷品質(zhì)控制和研發(fā): 以時(shí)間和溫度的變化觀察記錄生坯的情況——從錐形或圓柱形逐漸變平。

· 化石燃料和生物質(zhì)燃燒過(guò)程優(yōu)化: 燃燒過(guò)程留下的灰渣可在反應(yīng)器壁上附著一層有害涂層。根據(jù)ASTM D 1857執(zhí)行的灰錐測(cè)試有助于優(yōu)化反應(yīng)器控制。