由于派瑞林涂膜是在常溫下以帶有雙游離基活性單體沉積的，先是單體沉落附著在印制板組件基體上，然后才是各單體的活性鍵的鍵合，從而連成一片，形成一個整體膜層。通過長期使用，我們發(fā)現(xiàn)，涂敷層的各點就是一個獨立的保護點，當局部涂層損壞時，不會嚴重地影響其周邊區(qū)域涂層的防護性，同時涂敷層的各點又通過化學鍵連接一起，形成整體，更增強了其防護性能。

       常用永磁體有釹鐵硼磁體。即磁體是通過粉末冶金工藝燒結成型的產(chǎn)品，因其中的富釹相、釹鐵硼主體及邊界很容易形成晶間腐蝕，并且稀土元素釹性質活潑，因而使得整個釹鐵硼材料的耐蝕性極差，在潮濕環(huán)境下極易氧化生銹腐蝕。

       目前，常見的釹鐵硼磁體的防腐方法主要有電鍍、磷化、電泳等。但這些常規(guī)電鍍方法普遍存在各種各樣的問題，例如工藝穩(wěn)定性不好，適用范圍較窄，防腐能力不足，設備投資大，運行成本高等問題。

1、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于磁性材料領域，派瑞林的制備工藝和優(yōu)異性能相結合，使它能對小型超小型磁材進行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于印制電路組件和元器件領域，鍍膜材料通過派瑞林真空鍍膜設備使得活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于微電子集成電路領域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數(shù)也低，還能用微電子加工工藝進行刻蝕制圖，進行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護材料，而且也能作為結構層中的介電材料和掩膜材料使用，經(jīng)派瑞林（Parylene）涂敷過的集成電路芯片，其25um細直徑連接線，連接強度可提高5-10倍。