一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產(chǎn)光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產(chǎn)光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

  2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或濺射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

　　真空鍍膜技術初現(xiàn)于20世紀30年，四五十年開始出現(xiàn)工業(yè)應用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應用。

PVD是英文Physical?Vapor?Deition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

鍍膜適用于那些地方

鍍膜常用在相機鏡頭、近視、、老花鏡等矯正眼鏡上使用。

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時間。

眼鏡鍍膜常用藥品:二氧化鋯(ZrO?)、二氧化硅(SiO?)、ITO(增加鏡片導電抗紫外線)、HT-100(防水膜，防止老化和氧化)……

鍍膜原理:高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。