電鍍的意圖是在基材上鍍上金屬鍍層，改動(dòng)基材表面性質(zhì)或尺度。電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、進(jìn)步導(dǎo)電性、光滑性、耐熱性和表面美麗。

在盛有電鍍液的鍍槽中，通過(guò)整理和特殊預(yù)處理的待鍍件作為陰極，用鍍覆金屬制成陽(yáng)極，南北極別離與直流電源的負(fù)極和正極聯(lián)接。電鍍液由含有鍍覆金屬的化合物、導(dǎo)電的鹽類、緩沖劑、pH調(diào)節(jié)劑和添加劑等的水溶液組成。

真空電鍍的工藝簡(jiǎn)介：蒸發(fā)鍍是在真空條件下，加熱熔融金屬，使蒸發(fā)的金屬原子或分子沉積在鍍件的表面，形成金屬膜的方法。濺射鍍是在真空條件下導(dǎo)入氣，使之輝光放電，帶正電的離子(Ar )在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下轟擊陰極，使構(gòu)成陰極的原子被濺射到鍍件表面形成膜層的方法。離子鍍是在真空條件下，以惰性氣體(Ar)和反應(yīng)氣體(O2、N2、NH4)作介質(zhì)，利用氣體放電而發(fā)生離子化的部分蒸發(fā)物質(zhì)的離子、中性粒子和非活性氣體，一面轟擊帶負(fù)高壓的鍍件表面，一面生長(zhǎng)成膜的方法。

　真空電鍍工藝電鍍層一般是由銅鎳鉻組成，國(guó)家的環(huán)保規(guī)范是無(wú)害的無(wú)鎳無(wú)三價(jià)鉻，判斷是否到達(dá)環(huán)保規(guī)范肉眼是看不到的。所以判斷任何電鍍工藝的好壞都要用到若干通用目標(biāo)，具體有哪些目標(biāo)呢?請(qǐng)看小編給你帶來(lái)具體分析：

　　通常分為與鍍液功能有關(guān)的目標(biāo)和與鍍層功能有關(guān)的目標(biāo)。鍍液是指能夠擴(kuò)展金屬的陰極電流密度范圍、改進(jìn)鍍層的外觀、添加溶液的穩(wěn)定性等特點(diǎn)的液體。鍍液目標(biāo)是電鍍工藝的首要目標(biāo)，包括鍍液的電流效率、分散才能、深鍍才能、鍍層結(jié)晶狀況、鍍液穩(wěn)定性和可操作性、對(duì)環(huán)境的影響程度、經(jīng)濟(jì)效益等。廣州真空電鍍廠家