?真空鍍膜pvd真空鍍膜廠家

真空鍍膜加工技術(shù)的一般術(shù)語及工藝

2.1.8激光束蒸發(fā)：通過激光束加熱蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.9間接加熱的蒸發(fā)：在加熱裝置(例如小舟形蒸發(fā)器,坩堝,燈絲,加熱板,加熱棒,螺旋線圈等)中使蒸發(fā)材料獲得蒸發(fā)所須的熱量并通過熱傳導(dǎo)或熱輻射方式傳遞給蒸發(fā)材料的蒸發(fā)。

   2.1.10閃蒸：將很少量的蒸發(fā)材料間斷地做瞬時(shí)的蒸發(fā)。

   2.2真空濺射：在真空中，惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子（分子）或原子團(tuán)的過程。

   2.2.1反應(yīng)性真空濺射：通過與氣體的反應(yīng)獲得理想化學(xué)成分的膜層材料的真空濺射。

  2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負(fù)電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或?yàn)R射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)先用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

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真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會(huì)形成光的干擾的缺點(diǎn)，它的表面如錦緞一樣細(xì)膩柔和，很受市場的青睞，但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

PVD鍍膜技術(shù)的原理?

?PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。