真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成

真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線圈（發(fā)射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點(diǎn)是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)，其示意圖如圖1所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個電磁線圈。當(dāng)兩個線圈同向通過電流時，線圈合成的磁場將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場方向運(yùn)動，從而使等離子體束被約束在磁場方向上。同時靶材加有負(fù)偏壓，使濺射離子在電場的作用下加速撞擊靶表面，產(chǎn)生濺射作用。

真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)

真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵，而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外，還可以通過控制系統(tǒng)的真空度來進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。

真空鍍膜機(jī)中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時濺射速率與靶偏壓的關(guān)系，其中恒定電流時射頻功率為500W。

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。

③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。

④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r間短。

真空鍍對面涂層的要求：

①與鍍膜層要有良好的接觸性能;

②與底涂層要有一定的相溶性;

③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;

④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強(qiáng)。

由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜機(jī)鍍膜效果與質(zhì)量如何保障

很多客戶采購鍍膜機(jī)的時候，會咨詢我們一些關(guān)于真空鍍膜機(jī)相關(guān)的專業(yè)問題，比較再乎后期產(chǎn)品鍍膜質(zhì)量概率的客戶，都會經(jīng)常請教我們關(guān)于真空鍍膜機(jī)鍍膜效果與質(zhì)量方面的問題，比如真空鍍膜機(jī)在運(yùn)行的時候，該如何保證鍍膜質(zhì)量，要注意哪些細(xì)節(jié)，今天至成小編借此為大家詳細(xì)介紹一下真空鍍膜機(jī)鍍膜，效果和質(zhì)量該如何保障。

大家都知道，真空鍍膜是必須保持在真空環(huán)境下進(jìn)行的才行。因此真空鍍膜機(jī)若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量。但是，需要鍍膜材料表面是沒辦法保證是完全無灰塵的，因此，為了盡量減小材料表面灰塵的前提下，真空鍍膜機(jī)鍍膜的時候必須要注意以下幾點(diǎn)才行。

（1）真空鍍膜設(shè)備使用一段時間后，必須要對設(shè)備進(jìn)行清潔維護(hù)；

（2）規(guī)范操作人員及操作要求，包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等；

（3）嚴(yán)格處理襯底材料，做到清潔干凈，合乎工藝要求；

（4）源材料符合必要的純度要求；

（5）保證設(shè)施設(shè)備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求，環(huán)境溫度濕度要求等；

（6）降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

操作真空鍍膜機(jī)是否有注意以上的幾條細(xì)節(jié)事項(xiàng)，直接影響后期真空鍍膜機(jī)鍍膜效果與質(zhì)量，細(xì)節(jié)注意好了，自然鍍膜質(zhì)量和效果概率也大大提高了。