很多對于氫氣的概念就是爆l炸，很輕等等，然而并不是所有的氫氣都這樣，高純氫氣只會燃燒，并不會爆l炸，讓我們一起了解吧！

據(jù)了解，氫氣為氣體，與空氣混合能形成爆l炸性混合物，遇點火源能引起燃燒爆l炸。氫氣比空氣輕，在室內(nèi)使用和儲存時，漏氣上升滯留屋頂不易排出，遇火星會引起爆l炸。

對氫氣瓶的存放、使用，國家也有明確規(guī)定：氫氣瓶與盛有、、可燃物質(zhì)及氧化性氣體的容器和氣瓶的間距不應(yīng)小于8米；除去氣體中的雜質(zhì)常用的凈化方法有塵埃濾除法、水氣干燥法、選擇吸附法、催化反應(yīng)法、吸收法、金屬吸氣法和純化裝置提純法等。與明火或普通電氣設(shè)備的間距不應(yīng)小于10米；與其他可燃性氣體貯存地點的間距不應(yīng)小于20米；應(yīng)設(shè)有固定氣瓶的支架；多層建筑內(nèi)使用氣瓶，除生產(chǎn)特殊需要外，一般宜布置在頂層靠外墻處；必須使用專用的減壓器；開啟時，操作者應(yīng)站在閥口的側(cè)后方，動作要輕緩。

三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強氧化劑。國防工業(yè)液氧是現(xiàn)代火箭最l好的助燃劑,在超音速飛機中也需要液氧作氧化劑,可燃物質(zhì)浸漬液氧后具有強烈的爆l炸性,可制作液氧炸l藥。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

高純?nèi)?

化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，一般條件下在水與堿溶液中均不反應(yīng)（三校合編無機化學(xué)第四版下冊534頁），只有當(dāng)放電時在水中才發(fā)生NF3 2H2O==放電==HNO2 3HF。而且氧化過程中產(chǎn)生的熱量足以維持煉鋼過程所需的溫度,因此,吹氧不但縮短了冶煉時間,同時提高了鋼的質(zhì)量。F的電負(fù)性大于H，因此NF3中的孤對電子云由于向F偏移而導(dǎo)致電子云密度比在NH3中低，配位能力下降，因此質(zhì)子化時放熱小于NH3。偶極矩與上面類似，大概就是由于電負(fù)性的增強導(dǎo)致偶極矩的降低。

禁配物：還原劑、或可燃物。

高純氣體對于不同類別的氣體，純度指標(biāo)不同，例如對于氮，氫，氬，氦而言，通常指純度等于或高于99.999%的為高純氣體；而對于氧氣，純度為99.99%即可稱高純氧；對于碳?xì)浠衔?，純度?9.99%的即可認(rèn)為是高純氣體。用作陶瓷基板比氧化鋁導(dǎo)熱率高2倍多，電解質(zhì)的損失僅為氧化鋁的1/10。高純氣體應(yīng)用領(lǐng)域極寬，在半導(dǎo)體工業(yè)，高純氮、氫、氬、氦可作為運載氣和保護氣；高純氣體可作為配制混合氣的底氣。

高純氣體根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同可以分為有機高純氣體，和無機高純氣體。

常見高純氣體的用途

環(huán)氧乙烷可用作生產(chǎn)增塑劑、潤滑劑等；

氯是重要的甲基化劑，還可作致冷劑、發(fā)泡劑等；

氯乙烷可用作煙霧劑、冷凍劑、抗震劑、局部麻l醉劑；

二可作噴氣推進劑、制冷劑、麻l醉劑；甲硫醇用于合成染料、醫(yī)l藥、農(nóng)l藥；

乙炔可直接用于金屬切割焊接、原子吸收；乙烯基乙炔主要作為氯丁橡膠原料等