化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。是為提高金屬制件表面光潔度而將其浸入酸性或堿性溶液中進(jìn)行化學(xué)處理的方法?；瘜W(xué)拋光可以靠化學(xué)拋光液的自發(fā)化學(xué)反應(yīng)，在不借助電力和人力的條件下，自動(dòng)把待拋光的工件提高表面光潔度，可以達(dá)到鏡面效果。我們也可以簡(jiǎn)單的理解：化學(xué)拋光就是用化學(xué)把東西變亮。在低和中等放大倍數(shù)下利用顯微鏡觀察時(shí)，這種小的起伏一般在物鏡垂直鑒別能力之內(nèi)，仍能觀察到十分清晰的組織?；瘜W(xué)拋光處理：通過化學(xué)藥液對(duì)不銹鋼，銅，鋁，等金屬表面進(jìn)行拋光，清洗處理。將金屬浸入化學(xué)拋光液中，以通過化學(xué)反應(yīng)來去除表面的毛刺，批峰，使得金屬表面快速拋光亮。

化學(xué)拋光（銅化學(xué)拋光劑）

 機(jī)械拋光是利用機(jī)械壓力和局部摩擦產(chǎn)生高溫作用而獲得平滑的非晶型面。化學(xué)拋光與機(jī)械拋光不同，前者是利用化學(xué)溶液對(duì)金屬表面起溶解作用，而這種溶解作用是基于對(duì)金屬表面凸起部分溶解速度遠(yuǎn)比凸陷部分快的假設(shè)的基本之上的?；瘜W(xué)拋光比機(jī)械拋光相對(duì)優(yōu)越，表面在其操作方便、設(shè)備簡(jiǎn)單、費(fèi)用低且節(jié)省電力。

化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，?；瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。

化學(xué)拋光同機(jī)械拋光相比，是一種更為先進(jìn)、更為科學(xué)的拋光方法，其特點(diǎn)為：可用于機(jī)械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件，狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面，精細(xì)薄小的制件等。