高溫束源爐的特點

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溫度控制和均勻的基于SCR 功率輸出電源實現(xiàn)準(zhǔn)確的沉積速率控制，并確保高質(zhì)量的，均勻的膜。

◆ 使用PID 控制器進(jìn)行溫度控制，控制在±1℃

◆ 自動調(diào)節(jié)模式

◆ 可調(diào)節(jié)報警條件

◆ 速率控制輸入與沉積控制相兼容

水冷銅電極一般用的是什么銅？

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售水冷銅電極，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

鉻鋯銅（CuCrZr）化學(xué)成分（質(zhì)量分?jǐn)?shù)）%（ Cr:0.1-0.8， Zr:0.3-0.6）硬 度（HRB78-83）導(dǎo)電率 43ms/m鉻鋯銅有良好的導(dǎo)電性，導(dǎo)熱性，硬度高，耐磨抗爆，抗裂性以及軟化溫度高，焊接時電極損耗少，焊接速度快，焊接總成本低，適合作為熔接焊機的電極有關(guān)管件，但對電鍍工件表現(xiàn)一般。此產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于汽車、摩托車、制桶(罐)等機械制造工業(yè)的焊接、導(dǎo)電嘴、開關(guān)觸頭、模具塊、焊機輔助裝置用各種物料。用于低蒸汽壓的元素和化合物材料薄膜沉積，例如Fe，Cr，Ni，Co，Au，Ge等材料，以及表面科學(xué)分析和磁性或氧化物薄膜沉積。

靶材鍍膜工藝介紹

用于建筑玻璃的鍍膜玻璃-般都鍍薄膜。 我們把厚度低于1um的膜層叫薄膜，厚度高于1um的膜叫厚膜鍍膜工藝是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法。鍍膜的方法很多,真空蒸發(fā)、真空濺射、化學(xué)還原、溶膠凝膠法等。它要求膜層要有非常強的附著力,附著力不強的叫覆蓋。1:微電子領(lǐng)域2:平面顯示器用靶材3:存儲技術(shù)用靶材濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等。要獲得強附著力,就必須將玻璃表面清潔干凈。

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