可耐5000V且可隨厚度增加而持續(xù)提高

絕緣性能不會(huì)受環(huán)境溫度和濕度的影響；

Parylene 的介電常數(shù)和介電損耗均非常低且不受吸潮的影響；

Parylene 的高純度、表面憎水性及不存在任何痕量的離子污染又保證了極高的體積電阻率和表面電阻率；

極低的高頻損耗，特別適合超高頻器件。

用環(huán)氧樹(shù)脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時(shí)工件表面必須有一掛點(diǎn)，掛點(diǎn)的修補(bǔ)不僅費(fèi)工費(fèi)時(shí)，而且質(zhì)量難以保證用。另外當(dāng)繞線器件很小時(shí)，使用傳統(tǒng)膠帶做絕緣就很困難。用Parylene涂層能夠有效此問(wèn)題并具有大量生產(chǎn)降低成本的優(yōu)勢(shì) 。

       真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

      普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，對(duì)離子鍍后的試件作拉伸試驗(yàn)表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生，可見(jiàn)附著多么牢固，膜層均勻，致密。

       超聲波霧化噴涂設(shè)備的工作原理是通過(guò)將高頻超聲波轉(zhuǎn)變成機(jī)械振動(dòng)，超聲波霧化噴嘴霧化液滴極其細(xì)小，為微米大小的液滴。這些霧化液滴具有非常精密分布的特點(diǎn)，并且霧化液滴的粒子大小由超聲波工作時(shí)的頻率所決定的，頻率越大其霧化液滴粒子月細(xì)小。超聲波霧化噴涂設(shè)備能夠連續(xù)地將功能性液體均勻的分散在被處理器件表面，產(chǎn)生功能性薄膜涂層。

       超聲波霧化噴涂設(shè)備因其霧化噴涂的涂層均勻、致密、超薄，能夠?qū)崿F(xiàn)用少的材料噴涂更多的傳感器，為公司節(jié)約大量成本等優(yōu)勢(shì)已逐漸投入市場(chǎng)并大范圍使用。