離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜技術(shù)，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進(jìn)行的。　　

全SUS304不銹鋼機(jī)身，隱藏式雙層冷卻水套設(shè)計(jì)　　

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性　　

采用多路進(jìn)氣系統(tǒng)，精準(zhǔn)控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求?！　?

裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結(jié)合力和光潔度　　

采用創(chuàng)新工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質(zhì)量管理體系認(rèn)證；

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術(shù)，它是利用物質(zhì)在氣相中產(chǎn)生的物理或(及)化學(xué)反應(yīng)而在產(chǎn)品表面沉積單層或多層的、單質(zhì)或化合物的膜層，從而使產(chǎn)品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運(yùn)->沉積。它的主要特點(diǎn)在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運(yùn)時都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進(jìn)行遷移，終到達(dá)工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

對于需要更高的表面形態(tài)質(zhì)量的應(yīng)用（對于粗糙度，晶粒尺寸，化學(xué)計(jì)量和其他要求比沉積速率更重要的應(yīng)用），濺射工藝似乎是一種替代方法。由于在冷卻過程中隨著溫度或基材（聚合物）熔化溫度的降低而產(chǎn)生的應(yīng)力，沉積過程對某些應(yīng)用提出了溫度限制。這導(dǎo)致濺射工藝在PVD沉積技術(shù)中變得更加重要，同時又不會忘記基于濺射工藝的新技術(shù)的出現(xiàn)，以滿足不斷增長的市場需求。