真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

真空鍍膜設(shè)備在塑料制品應(yīng)用極其廣泛，通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，使塑料表面金屬化，將有機(jī)材料和無機(jī)材料結(jié)合起來，大大提高了它的物理、化學(xué)性能。使塑料制品更美觀、不易老化，且讓其機(jī)械性良好。

塑料制品通過真空鍍膜設(shè)備的應(yīng)用，大大提高了它的性能，改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜，硬度及耐磨性大大增加。這也是為什么如今真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)在很多的廠商都不可缺少的。

真空鍍膜就是于真空室內(nèi)，采用一定方法使材料凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。

真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。