在光電方面的應(yīng)用：主要是通過在多孔膜微孔中填充熒光物質(zhì)來(lái)制備光電元件，采用浸泡與熱處理相結(jié)合的方法，在多孔膜內(nèi)引入Tb3 制得的功能化膜，在外加電場(chǎng)的作用發(fā)出綠色光。

電解沉積超硬質(zhì)和自潤(rùn)滑的電解著色膜。由于鋁本身相當(dāng)軟，鋁陽(yáng)極氧化提供了一個(gè)表面硬化的方法。低剪應(yīng)力的金屬填充在陽(yáng)極氧化鋁的微孔中，就是一個(gè)提供自潤(rùn)滑性能的有效方法。在機(jī)械工程上有十分重要的使用價(jià)值。

眾所周知，陽(yáng)極氧化膜是由大量垂直于金屬表面的六邊形晶胞組成，每個(gè)晶胞中心有一個(gè)膜孔，并具有極強(qiáng)的吸附力，當(dāng)氧化過的鋁制品浸入染料溶液中，染料分子通過擴(kuò)散作用進(jìn)入氧化膜的膜孔中，同時(shí)與氧化膜形成難以分離的共價(jià)鍵和離子鍵。這種鍵結(jié)合是可逆的，在一定條件下會(huì)發(fā)生解吸附作用。因此，染色之后，必須經(jīng)過封孔處理，將染料固定在膜孔中，同進(jìn)增加氧化膜的耐蝕、耐磨等性能。

陽(yáng)極氧化工藝對(duì)染色的影響在氧化染色整個(gè)流程中，因?yàn)檠趸に囋蛟斐扇旧涣际潜容^普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時(shí)獲得均勻一致顏色的前提和基礎(chǔ)，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環(huán)量，冷卻量，保證良好的導(dǎo)電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩(wěn)定性。

硫酸濃度，控制在180—200g／l。稍高的硫酸濃度可促進(jìn)氧化膜的溶解反應(yīng)加快，利于孔隙的擴(kuò)張，更易于染色；鋁離子濃度，控制在5—15 g／l。鋁離子小于5g／l，生成的氧化膜吸附能力降低，影響上色速度，鋁離子大于15g／l時(shí)，氧化膜的均勻性受到影響，容易出現(xiàn)不規(guī)則的膜層。